広瀬 文彦 | 東北大・通研

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概要

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関連著者

• 広瀬 文彦

  東北大・通研

• 廣瀬 文彦

  山形大学大学院 理工学研究科

• 鈴木 貴彦

  山形大学工学部

• 広瀬 文彦

  山形大:jst

• 廣瀬 文彦

  山形大学

• 廣瀬 文彦

  山形大工

• 廣瀬 文彦

  山形大学 工学部

• 廣瀬 文彦

  山形大学大学院理工学研究科

• 籾山 克章

  山形大学大学院理工学研究科

• 鹿又 健作

  山形大学大学院理工学研究科

• 鈴木 貴彦

  山形大学大学院理工学研究科

• 籾山 克章

  山形大学大学院 理工学研究科

• 久保田 繁

  山形大学工学部

• 廣瀬 文彦

  山形大学工学部

• 久保田 繁

  山形大学大学院理工学研究科

• 吉田 一樹

  山形大学大学院理工学研究科

• 大山 直樹

  山形大学大学院理工学研究科

• 金子 翔

  山形大学大学院理工学研究科

• 栗原 啓

  山形大学大学院理工学研究科

• 都築 暁

  山形大学大学院理工学研究科

• 吉田 一樹

  山形大学大学院理工学研究科電気電子工学専攻

• 庄子 優樹

  山形大学大学院理工学研究科

• 伊藤 瑛基

  山形大学大学院理工学研究科

• 吉田 一樹

  山形大学大学院 理工学研究科

• 佐野 裕紀

  山形大学大学院理工学研究科

• 成田 克

  山形大学大学院理工学研究科

• 宮城 達郎

  山形大学大学院理工学研究科

• 大場 好弘

  山形大学大学院理工学研究科

• 佐藤 和昭

  山形大学大学院理工学研究科

• 太田 員正

  山形大学大学院理工学研究科

• 高梨 優樹

  山形大学大学院理工学研究科

• 橋本 将貴

  山形大学大学院理工学研究科

• 武田 大樹

  山形大学大学院理工学研究科

• 渡邉 雄仁

  山形大学大学院理工学研究科

• 武田 大樹

  富山大学工学部

• 柴田 明

  山形大学大学院 理工学研究科

• 大場 好弘

  山形大学大学院理工学研究科電気電子工学専攻

• 大場 好弘

  山形大学大学院 理工学研究科電気電子工学専攻

• 丹野 優樹

  山形大学大学院理工学研究科

• 大山 直樹

  山形大学大学院 理工学研究科

• 末光 眞希

  東北大学電気通信研究所

• 片桐 洋史

  山形大学大学院理工学研究科物質化学工学専攻

• 荒牧 晋司

  三菱化学科学研究センター

• 酒井 良正

  三菱化学科学研究センター

• 山口 裕二

  山形大学大学院理工学研究科

• 片桐 洋史

  山形大学大学院理工学研究科

• 宮本 信雄

  東北大学電気通信研究所

• 中嶋 節男

  積水化学工業株式会社

• 井田 雄介

  山形大学大学院理工学研究科

• 吉田 洋大

  山形大学大学院理工学研究科

• 柴田 明

  山形大学大学院理工学研究科

• 末光 眞希

  東北大・通研

• 宮本 信雄

  東北大・通研

• 宮本 信雄

  東北大通研

• 宮本 信雄

  東北学院大 工

• 荒牧 晋司

  三菱化学株式会社科学技術研究センター

• 佐藤 和昭

  山形大学工学部電気電子工学科

• 木下 友太

  山形大学大学院理工学研究科

• 出貝 求

  山形大学大学院理工学研究科

• 黒沢 正章

  山形大学大学院理工学研究科

• 石田 瑛之

  山形大学大学院理工学研究科

• 吉田 洋大

  山形大学大学院 理工学研究科

• 吉田 知恵

  積水化学工業株式会社開発推進センター

• 廣瀬 文彦

  山形大学工学部電気電子工学科

• 久保田 繁

  山形大学工学部電気電子工学科

• 永瀬 拓人

  山形大学工学部電気電子工学科

• 鹿又 健作

  山形大学工学部電気電子工学科

• 宮下 祐太

  山形大学大学院理工学研究科

• 吉田 知恵

  積水化学工業株式会社 開発推進センター

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著作論文

• 半導体工学教育用簡易MOFET作製プロセス
• アリール基を置換したチオフェンオリゴマーの合成とOFET特性(TFT(有機,酸化物),一般)
• 低純度シリコンを用いた太陽電池の高効率化(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
• 6T/n-Si有機無機接合ダイオードの電荷注入機構と発電特性の解析(有機・薄膜デバイス,一般)
• 有機ゲートを用いたSiGe/Si/Si FETとIGBTの試作と評価(TFT(有機,酸化物),一般)
• 有機ゲート絶縁膜を用いたFETの試作とキャリア輸送特性評価(有機・薄膜デバイス,一般)
• ペンタセン/シリコン有機無機接合ダイオードの電荷注入機構と発電特性の解析(光記録技術・電子材料,一般)
• 遷移金属含有低純度Siを用いた太陽電池の製作(光記録技術・電子材料,一般)
• MCR-CVD法によるフッ素フリータングステン成長(薄膜プロセス・材料,一般)
• 固相拡散法を用いた厚膜鉄シリサイドの試作と評価(光記録技術・電子材料,一般)
• シランを用いたシリコンガスソースMBEの成長機構 : エピタキシーI
• MoO_3ホール輸送層を用いた有機薄膜太陽電池の発電特性(TFT(有機,酸化物),半導体プロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
• OHラジカル酸化法の開発とデバイス評価
• 赤外吸収分光法を用いたHfO_2原子層堆積法の反応素過程評価
• P3HT/n-Si有機無機接合ヘテロダイオードの電荷注入機構と発電特性の解析(TFT(有機,酸化物),半導体プロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
• 高温溶媒吸着法による色素増感太陽電池の高効率化(TFT(有機,酸化物),半導体プロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
• バルクヘテロ型有機薄膜太陽電池のアニール効果の解析
• 高溶解性チオフェンオリゴマーの塗布製膜性と有機薄膜太陽電池特性(TFT(有機,酸化物),半導体プロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
• 遷移金属を含有した低純度Si基板を用いた太陽電池の試作(薄膜プロセス・材料,一般)
• 色素増感太陽電池の高効率化 (特集 有機系太陽電池の最新事情)
• 太陽電池の低コスト化に向けた新しいSi・材料製造の動き (特集 太陽電池の効率を上げる,信頼性を高めるマテリアルの最新トレンド)
• P3HT/n-Si有機無機ヘテロ接合ダイオードにおける界面処理の電気特性への影響(TFT(有機,酸化物),一般)
• 有機ゲートTFTを用いた多結晶Si粒界のキャリア輸送機構評価(TFT(有機,酸化物),一般)
• 真空脱水処理法を用いた色素増感太陽電池の高効率化(TFT(有機,酸化物),一般)
• 有機太陽電池の光伝搬解析と反射防止構造の設計(TFT(有機,酸化物),一般)
• N719色素増感太陽電池における色素/酸化チタン界面のその場観察(TFT(有機,酸化物),一般)
• MoOxホール輸送層を用いた有機薄膜太陽電池のAg微粒子導入効果
• 有機太陽電池の反射防止多層膜のロバスト最適化
• 赤外吸収分光を用いたシリコン酸化膜の室温原子層堆積法の素過程評価
• FeおよびFeSi蒸着材料からの固相反応法による鉄シリサイド薄膜の作製と評価
• 塩素還元化学気相成長法を用いたSiの低温薄膜形成
• P3HT/n-Siヘテロ接合を用いた太陽電池の高効率化検討
• 真空脱水処理法を用いた色素増感太陽電池の試作と評価(有機デバイス・酸化物デバイス・一般)
• バルクヘテロ有機太陽電池の分子ドーピング効果(有機デバイス・酸化物デバイス・一般)
• 有機太陽電池用反射防止膜の試作と評価(有機デバイス・酸化物デバイス・一般)
• フレキシブル・ソフトマテリアル上の室温シリカコーティング(有機デバイス・酸化物デバイス・一般)

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