廣瀬 文彦 | 山形大学大学院理工学研究科
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概要
関連著者
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廣瀬 文彦
山形大学大学院理工学研究科
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廣瀬 文彦
山形大学大学院 理工学研究科
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鈴木 貴彦
山形大学工学部
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廣瀬 文彦
山形大学
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広瀬 文彦
東北大・通研
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成田 克
山形大学大学院理工学研究科
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廣瀬 文彦
山形大工
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廣瀬 文彦
山形大学 工学部
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鈴木 貴彦
山形大学大学院理工学研究科
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庭野 道夫
東北大学大学院医工学研究科
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栗林 幸永
山形大学大学院理工学研究科
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庭野 道夫
東北大学電気通信研究所ナノスピン実験施設
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木村 康男
東北大学電気通信研究所ナノスピン実験施設
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籾山 克章
山形大学大学院理工学研究科
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板谷 謹悟
WPI Advanced Institute for Material Research, Tohoku University
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宮城 達郎
山形大学大学院理工学研究科
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木村 康男
東北大学電気通信研究所
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高梨 優樹
山形大学大学院理工学研究科
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井田 雄介
山形大学大学院理工学研究科
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吉田 洋大
山形大学大学院理工学研究科
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始閣 雅也
山形大学工学部
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板谷 謹悟
東北大学大学院理工学研究科
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板谷 謹悟
Wpi Advanced Institute For Material Research Tohoku University
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Kimura Yasuo
Department Of Biological And Environmental Chemistry Tottori University
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始閣 雅也
山形大 大学院理工学研究科
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栗林 幸永
山形大 大学院理工学研究科
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板谷 謹悟
東北大学大学院
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始閣 雅也
山形大学大学院理工学研究科
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廣瀬 文彦
山形大学工学部
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都築 暁
山形大学大学院理工学研究科
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庭野 道夫
東北大学電気通信研究所
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広瀬 文彦
山形大:jst
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鹿又 健作
山形大学大学院理工学研究科
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吉田 洋大
山形大学工学部
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松島 優
山形大学大学院理工学研究科
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佐野 裕紀
山形大学大学院理工学研究科
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庭野 道夫
東北大通研
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小岩 恭祐
山形大学大学院理工学研究科
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テイ ヘンシン
山形大学大学院理工学研究科
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木村 康男
東北大通研ナノスピン
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庭野 道夫
東北大
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鄭 恒しん
山形大学大学院理工学研究科
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テイ ヘンシン
山形大学大学院 理工学研究科
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栗原 啓
山形大学大学院理工学研究科
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吉田 一樹
山形大学大学院理工学研究科電気電子工学専攻
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吉田 一樹
山形大学大学院理工学研究科
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籾山 克章
山形大学大学院 理工学研究科
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大場 好弘
山形大学大学院理工学研究科
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佐藤 和昭
山形大学大学院理工学研究科
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太田 員正
山形大学大学院理工学研究科
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大山 直樹
山形大学大学院理工学研究科
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金子 翔
山形大学大学院理工学研究科
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武田 大樹
山形大学大学院理工学研究科
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武田 大樹
富山大学工学部
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長瀬 真一
山形大学大学院理工学研究科
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大場 好弘
山形大学大学院理工学研究科電気電子工学専攻
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木下 友太
山形大学大学院理工学研究科
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吉田 洋大
山形大学大学院 理工学研究科
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大場 好弘
山形大学大学院 理工学研究科電気電子工学専攻
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成田 克
山形大学工学部
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梅田 卓司
山形大学工学部
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南谷 靖史
山形大学大学院理工学研究科
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片桐 洋史
山形大学大学院理工学研究科物質化学工学専攻
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山吉 康弘
山形大学工学部電気電子工学科
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南谷 靖史
熊本大・工
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庭野 道夫
東北大 通研
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木村 康男
東北大学 電気通信研究所ナノ・スピン実験施設
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荒牧 晋司
三菱化学科学研究センター
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酒井 良正
三菱化学科学研究センター
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山口 裕二
山形大学大学院理工学研究科
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片桐 洋史
山形大学大学院理工学研究科
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伊藤 正志
山形大学工学部
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楢原 浩一
山形大学大学院理工学研究科
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伊藤 正和
名古屋大学
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島川 武久
山形大学工学部電気電子工学科
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橋本 将貴
山形大学大学院理工学研究科
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久保田 繁
山形大学大学院理工学研究科
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久保田 繁
山形大学工学部
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木下 友太
山形大
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宮 博信
日立国際電気
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平原 和弘
信越化学
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山吉 康弘
山形大学大学院理工学研究科
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渡邉 雄仁
山形大学大学院理工学研究科
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柴田 明
山形大学大学院理工学研究科
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輪島 寿夫
山形大学
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荒牧 晋司
三菱化学株式会社科学技術研究センター
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南谷 靖史
山形大学
-
松島 優
山形大学工学部
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楢原 浩一
山形大学
-
柴田 明
山形大学大学院 理工学研究科
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山吉 康弘
山形大学
-
佐藤 和昭
山形大学工学部電気電子工学科
-
出貝 求
山形大学大学院理工学研究科
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黒沢 正章
山形大学大学院理工学研究科
-
石田 瑛之
山形大学大学院理工学研究科
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成田 克
山形大学
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木村 康男
東北大学 電気通信研究所 ナノ・スピン実験施設
-
吉田 一樹
山形大学大学院 理工学研究科
著作論文
- 固相拡散法を用いた厚膜鉄シリサイドの試作と評価 (電子部品・材料)
- 半導体工学教育用簡易MOFET作製プロセス
- 低純度シリコンを用いた太陽電池の試作と評価(薄膜プロセス・材料,一般)
- アリール基を置換したチオフェンオリゴマーの合成とOFET特性(TFT(有機,酸化物),一般)
- 塩化Niプラズマを用いた低温Niシリサイド形成(薄膜プロセス・材料,一般)
- 山形大学における3年次学生実験への創成テーマの導入事例
- 低純度シリコンを用いた太陽電池の高効率化(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- 6T/n-Si有機無機接合ダイオードの電荷注入機構と発電特性の解析(有機・薄膜デバイス,一般)
- 有機ゲートを用いたSiGe/Si/Si FETとIGBTの試作と評価(TFT(有機,酸化物),一般)
- 界面制御による色素増感太陽電池の高効率化(TFT(有機,酸化物),一般)
- 6T/TiO_2接合を用いた有機無機ヘテロダイオードの光応答特性(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- SiGeをアノード層に用いたファストリカバリダイオードの高速・低抵抗化(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 界面制御による色素増感太陽電池の高効率化(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 6T/TiO_2接合を用いた有機無機ヘテロダイオードの光応答特性(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- SiGeをアノード層に用いたファストリカバリダイオードの高速・低抵抗化(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 界面制御による色素増感太陽電池の高効率化(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 6T/TiO_2接合を用いた有機無機ヘテロダイオードの光応答特性(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- SiGeをアノード層に用いたファストリカバリダイオードの高速・低抵抗化(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 界面制御による色素増感太陽電池の高効率化(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 6T/TiO_2接合を用いた有機無機ヘテロダイオードの光応答特性(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- SiGeをアノード層に用いたファストリカバリダイオードの高速・低抵抗化(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- 界面制御による色素増感太陽電池の高効率化(光・電子デバイス実装,デバイス技術,及び一般)
- N719色素吸着制御による色素増感太陽電池の高効率化(特別ワークショップ:電子デバイスとしてみた有機トランジスタ・太陽電池の現状と展望)
- 高分子系有機薄膜トランジスタの熱処理効果(特別ワークショップ:電子デバイスとしてみた有機トランジスタ・太陽電池の現状と展望)
- 太陽電池用アモルファスSi薄膜のキャリア濃度測定と発電特性シミュレーション
- 有機ゲート絶縁膜を用いたFETの試作とキャリア輸送特性評価(有機・薄膜デバイス,一般)
- トリメチルアミノシラン・オゾンを用いたシリコン酸化膜の原子層堆積法の素反応解析
- ペンタセン/シリコン有機無機接合ダイオードの電荷注入機構と発電特性の解析(光記録技術・電子材料,一般)
- 遷移金属含有低純度Siを用いた太陽電池の製作(光記録技術・電子材料,一般)
- MCR-CVD法によるフッ素フリータングステン成長(薄膜プロセス・材料,一般)
- 固相拡散法を用いた厚膜鉄シリサイドの試作と評価(光記録技術・電子材料,一般)
- MOCVD法によるSi(100)基板上ZnO薄膜形成
- 高分子系有機トランジスタの有機半導体層への熱処理効果
- P3HT有機電界効果トランジスタの有機絶縁膜界面の化学修飾効果
- Time-of-flight法を用いたルブレン有機単結晶のキャリア輸送特性評価(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術)
- Time-of-flight法を用いたルブレン有機単結晶のキャリア輸送特性評価(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術)
- 色素増感太陽電池用N719色素のTiO_2表面上の吸着構造評価
- CVD法によるアナタース酸化チタン薄膜の低温形成
- Time-of-flight法を用いたルブレン有機単結晶のキャリア輸送特性評価(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術)
- 赤外吸収分光法を用いたHfO2原子層堆積法の反応素過程評価 (電子部品・材料)
- SiGeをアノード層に用いた高速リカバリpinダイオード
- TOF法・4端子法を用いた有機半導体層のキャリア輸送特性評価
- SiGeアノード層を用いた高速リカバリ pin ダイオード
- MoO_3ホール輸送層を用いた有機薄膜太陽電池の発電特性(TFT(有機,酸化物),半導体プロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- OHラジカル酸化法の開発とデバイス評価
- 赤外吸収分光法を用いたHfO_2原子層堆積法の反応素過程評価
- P3HT/n-Si有機無機接合ヘテロダイオードの電荷注入機構と発電特性の解析(TFT(有機,酸化物),半導体プロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- 高温溶媒吸着法による色素増感太陽電池の高効率化(TFT(有機,酸化物),半導体プロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- バルクヘテロ型有機薄膜太陽電池のアニール効果の解析
- 高溶解性チオフェンオリゴマーの塗布製膜性と有機薄膜太陽電池特性(TFT(有機,酸化物),半導体プロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- 遷移金属を含有した低純度Si基板を用いた太陽電池の試作(薄膜プロセス・材料,一般)
- 有機太陽電池の光伝搬解析と反射防止構造の設計(TFT(有機,酸化物),一般)