廣瀬 文彦 | 山形大学
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概要
関連著者
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廣瀬 文彦
山形大学
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廣瀬 文彦
山形大学大学院理工学研究科
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廣瀬 文彦
山形大工
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広瀬 文彦
東北大・通研
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廣瀬 文彦
山形大学 工学部
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鈴木 貴彦
山形大学工学部
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廣瀬 文彦
山形大学大学院 理工学研究科
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鈴木 貴彦
山形大学大学院理工学研究科
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籾山 克章
山形大学大学院理工学研究科
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広瀬 文彦
山形大:jst
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都築 暁
山形大学大学院理工学研究科
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成田 克
山形大学大学院理工学研究科
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廣瀬 文彦
山形大学工学部
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栗原 啓
山形大学大学院理工学研究科
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吉田 一樹
山形大学大学院理工学研究科電気電子工学専攻
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吉田 一樹
山形大学大学院理工学研究科
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佐野 裕紀
山形大学大学院理工学研究科
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宮城 達郎
山形大学大学院理工学研究科
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大場 好弘
山形大学大学院理工学研究科
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佐藤 和昭
山形大学大学院理工学研究科
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太田 員正
山形大学大学院理工学研究科
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鹿又 健作
山形大学大学院理工学研究科
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高梨 優樹
山形大学大学院理工学研究科
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大山 直樹
山形大学大学院理工学研究科
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金子 翔
山形大学大学院理工学研究科
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武田 大樹
山形大学大学院理工学研究科
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武田 大樹
富山大学工学部
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大場 好弘
山形大学大学院理工学研究科電気電子工学専攻
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木下 友太
山形大学大学院理工学研究科
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大場 好弘
山形大学大学院 理工学研究科電気電子工学専攻
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籾山 克章
山形大学大学院 理工学研究科
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成田 克
山形大学工学部
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南谷 靖史
山形大学大学院理工学研究科
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片桐 洋史
山形大学大学院理工学研究科物質化学工学専攻
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山吉 康弘
山形大学工学部電気電子工学科
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木村 康男
東北大学電気通信研究所
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庭野 道夫
東北大学電気通信研究所
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南谷 靖史
熊本大・工
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庭野 道夫
東北大 通研
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木村 康男
東北大学 電気通信研究所ナノ・スピン実験施設
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荒牧 晋司
三菱化学科学研究センター
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酒井 良正
三菱化学科学研究センター
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山口 裕二
山形大学大学院理工学研究科
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片桐 洋史
山形大学大学院理工学研究科
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楢原 浩一
山形大学大学院理工学研究科
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庭野 道夫
東北大学大学院医工学研究科
-
井田 雄介
山形大学大学院理工学研究科
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吉田 洋大
山形大学大学院理工学研究科
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橋本 将貴
山形大学大学院理工学研究科
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木下 友太
山形大
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宮 博信
日立国際電気
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平原 和弘
信越化学
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山吉 康弘
山形大学大学院理工学研究科
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庭野 道夫
東北大学電気通信研究所ナノスピン実験施設
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渡邉 雄仁
山形大学大学院理工学研究科
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柴田 明
山形大学大学院理工学研究科
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木村 康男
東北大学電気通信研究所ナノスピン実験施設
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庭野 道夫
東北大
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輪島 寿夫
山形大学
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荒牧 晋司
三菱化学株式会社科学技術研究センター
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南谷 靖史
山形大学
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楢原 浩一
山形大学
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Kimura Yasuo
Department Of Biological And Environmental Chemistry Tottori University
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柴田 明
山形大学大学院 理工学研究科
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山吉 康弘
山形大学
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佐藤 和昭
山形大学工学部電気電子工学科
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出貝 求
山形大学大学院理工学研究科
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黒沢 正章
山形大学大学院理工学研究科
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石田 瑛之
山形大学大学院理工学研究科
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吉田 洋大
山形大学大学院 理工学研究科
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成田 克
山形大学
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木村 康男
東北大学 電気通信研究所 ナノ・スピン実験施設
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吉田 一樹
山形大学大学院 理工学研究科
著作論文
- 半導体工学教育用簡易MOFET作製プロセス
- アリール基を置換したチオフェンオリゴマーの合成とOFET特性(TFT(有機,酸化物),一般)
- 山形大学における3年次学生実験への創成テーマの導入事例
- 低純度シリコンを用いた太陽電池の高効率化(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- 6T/n-Si有機無機接合ダイオードの電荷注入機構と発電特性の解析(有機・薄膜デバイス,一般)
- 有機ゲートを用いたSiGe/Si/Si FETとIGBTの試作と評価(TFT(有機,酸化物),一般)
- 有機ゲート絶縁膜を用いたFETの試作とキャリア輸送特性評価(有機・薄膜デバイス,一般)
- トリメチルアミノシラン・オゾンを用いたシリコン酸化膜の原子層堆積法の素反応解析
- ペンタセン/シリコン有機無機接合ダイオードの電荷注入機構と発電特性の解析(光記録技術・電子材料,一般)
- 遷移金属含有低純度Siを用いた太陽電池の製作(光記録技術・電子材料,一般)
- MCR-CVD法によるフッ素フリータングステン成長(薄膜プロセス・材料,一般)
- 固相拡散法を用いた厚膜鉄シリサイドの試作と評価(光記録技術・電子材料,一般)
- MOCVD法によるSi(100)基板上ZnO薄膜形成
- MoO_3ホール輸送層を用いた有機薄膜太陽電池の発電特性(TFT(有機,酸化物),半導体プロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- OHラジカル酸化法の開発とデバイス評価
- 赤外吸収分光法を用いたHfO_2原子層堆積法の反応素過程評価
- P3HT/n-Si有機無機接合ヘテロダイオードの電荷注入機構と発電特性の解析(TFT(有機,酸化物),半導体プロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- 高温溶媒吸着法による色素増感太陽電池の高効率化(TFT(有機,酸化物),半導体プロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- バルクヘテロ型有機薄膜太陽電池のアニール効果の解析
- 高溶解性チオフェンオリゴマーの塗布製膜性と有機薄膜太陽電池特性(TFT(有機,酸化物),半導体プロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- 遷移金属を含有した低純度Si基板を用いた太陽電池の試作(薄膜プロセス・材料,一般)
- 色素増感太陽電池の高効率化 (特集 有機系太陽電池の最新事情)
- 太陽電池の低コスト化に向けた新しいSi・材料製造の動き (特集 太陽電池の効率を上げる,信頼性を高めるマテリアルの最新トレンド)