赤外吸収分光法を用いたHfO2原子層堆積法の反応素過程評価 (電子部品・材料)

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概要

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• 電子情報通信学会の論文
• 2011-08-10

著者

• 鈴木 貴彦

  山形大学工学部

• 廣瀬 文彦

  山形大学大学院理工学研究科

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