宮本 信雄 | 東北学院大 工
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
宮本 信雄
東北学院大 工
-
宮本 信雄
東北大学電気通信研究所
-
宮本 信雄
東北大通研
-
宮本 信雄
東北学院大学工学部
-
宮本 信雄
東北学院大工
-
末光 眞希
東北大学電気通信研究所
-
庭野 道夫
東北大通研
-
佐藤 直幸
茨城大学
-
三重野 哲
静岡大・理
-
真瀬 寛
茨城大学
-
佐藤 徳芳
東北大学
-
平田 孝道
都市大
-
阿部 俊三
東北工大
-
Mieno T
Shizuoka Univ. Shizuoka‐shi
-
Mieno T
Department Of Physics Faculty Of Science Shizuoka University
-
畠山 力三
東北大院工
-
奥 健夫
大阪大学産業科学研究所産業科学ナノテクノロジーセンター
-
真瀬 寛
茨城大工
-
佐藤 直幸
茨城大工
-
佐藤 徳芳
東北大学工学部電磁工学講座
-
三重野 哲
静岡大理
-
佐藤 徳芳
東北大院工
-
平田 孝道
東北大院工
-
奥 健夫
大阪大産研
-
高桑 雄二
東北大科研
-
庭野 道夫
東北大学電気通信研究所
-
遠田 義晴
弘前大理工
-
遠田 義晴
弘前大学理工学部
-
石辺 二朗
日立造船(株)真空機器システム部
-
石辺 二朗
日立造船株式会社
-
高桑 雄二
東北学院大工
-
高桑 雄二
東北大学・科学計測研究所
-
高桑 雄二
東北大学科学計測研究所
-
遠田 義晴
東北大学電気通信研究所
-
宮本 信雄
東北大・通研
-
小野寺 勤
東北大学通研
-
北側 彰一
日立造船
-
北側 彰一
日立造船株式会社技術研究所
-
平舘 幸男
東北工大
-
小村 明夫
日立造船
-
真瀬 寛
茨城大・工
-
小村 明夫
日立造船(株)技術・開発本部
-
鈴木 基光
日立造船(株)技術・開発本部 技術研究所
-
鈴木 基光
日立造船株式会社
-
小村 明夫
日立造船株式会社
-
畠山 力三
東北大・工
-
佐藤 徳芳
東北大・工
-
田所 真一
東北学院大学工学部
-
釆女 豊
東北大学電気通信研究所
-
平舘 幸男
東北工業大学
-
北側 彰一
日立造船(株)
-
坂本 仁志
三菱重工業株式会社基盤技術研究所
-
林 豊彦
東北大・工
-
末光 眞希
東北大・通研
-
広瀬 文彦
東北大・通研
-
末光 真希
東北大通研
-
吉田 洋平
横国大工
-
鈴木 基光
日立造船 (株) 技術本部技術研究所
-
吉田 洋平
東北大院工
-
茂木 則行
東北大院工
-
平田 孝道
東北大・工
-
佐藤 直幸
茨城大・工
-
庭野 道夫
東北大・通研
-
鈴木 基光
日立造船(株)技術本部技術研究所
-
北側 彰一
日立造船株式会社技術企画部
-
高橋 勝徳
東北大学電気通信研究所
-
小野寺 勤
東北大学電気通信研究所
-
宮本 信雄
東北大・電通研
-
小野寺 勤
東北大・電通研
-
Mieno T
Shizuoka Univ. Jpn
-
坂本 仁志
三菱重工業
-
北側 彰一
日立造船株式会社
著作論文
- TDSによる電子ビーム再溶融処理材のガス放出特性評価
- 純水中Si表面の反応プロセス : 酸化と水素置換
- シリコン気相成長中の表面電子状態
- 変調加熱昇温脱離法によるガス放出特性評価
- シランを用いたシリコンガスソースMBEの成長機構 : エピタキシーI
- 4p-E4-2 NMRスピンエコーによる半導体結晶中四極子相互作用の検出
- 分子線エピタキシ-用アルミニウム合金超高真空チャンバ-1-
- クロム添加半絶縁性砒化ガリウムのEPRによる評価
- X線の構造解析への応用 (X線技術の応用の現状と将来展望)
- シリコンMBE成長中の光電子分光強度振動
- X線測定によるシリコンエピタキシャル層の格子歪
- 25pB-4 アークプラズマ制御のフラーレンベースナノ構造創成への効果
- 26aB7 プラズマ制御によるフラーレンベースのナノ構造創成(ヘリカル/プラズマ応用)
- 29p-XH-1 プラズマ制御によるSi-フラーレン複合物質の創製
- 有機珪素化合物の光分解・重合プロセス
- 29a-YX-12 Si内包フラーレン生成の試み
- 気相法と分子線法によるシリコンの結晶成長 (現在の主な研究)
- アルミニウム合金の超高真空システムと半導体プロセスへの応用
- アセチレン(C2H2)-酸素(O2)の燃焼炎によるダイヤモンドの合成
- 気相法によるβ-SiC膜の成長
- MBE装置用基板加熱器の開発
- レ-ザ照射によるβ-SiC膜の形成
- アルミニウム合金製分子線エピタキシー容器の真空性能
- シリコンの気相成長における結晶表面形態II : モルフォロジー
- シリコンの気相成長における結晶表面形態
- X線測定によるシリコンエピタキシャル層の格子歪み(Growth and Characterization of Silicon Crystals)