920 CF_4誘導結合プラズマとラジカル流れの粒子モデル解析(J14-2 量子・分子熱流体工学(2),J14 量子・分子熱流体工学,2005年度年次大会)
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概要
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The structures of axisymmetrical inductively-coupled CF_4 plasmas and radicals flow were examined by using the Particle-in-Cell/Monte Carlo method and direct simulation Monte Carlo method. Here are clarified the effects of pressure, power deposition, and wafer biasing on the plasma structure.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2005-09-18
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