気流中のナノ粒子の運動(J11-3 量子・分子熱流体工学(3),J11 量子・分子熱流体工学)
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概要
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The motion of nanoparticles in gas flows of SiH_4 and H_2 is examined for a CVD(chmical vapor deposition) reactor. The objective is to study the effect of particle size, gas pressure, and mass flow rate on the flux of nanoparticle sticked to the a-Si:H film. DSMC is used in the simulation.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2004-09-04
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