ターゲットの***ージョン分布を考慮したスパッタ膜の成長速度解析
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概要
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The target of a sputtering apparatus usually suffers from nonuniform erosion due to incident ions. The growth rate of deposited films then depends on the distribution of the erosion rate on the target. The test multiparticle method, which is a combination of the Monte Carlo direct simulation method and the test-particle method, is used to calculate atomic motions and depositions in an axisymmetrical sputtering chamber. The effect of the erosion rate on the thickness distribution of the films is clarified in the pressure range of 0.1-1 Pa by having recourse to the obtained density and flow fields of the sputtered atoms.
- 社団法人日本機械学会の論文
- 1991-10-25
著者
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