Cl_2系ICPドライエッチングを施したAlGaInP層の表面状態分析(化合物半導体デバイスのプロセス技術)
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概要
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- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2006-06-02
著者
-
谷口 隆文
(株)日立製作所中央研究所
-
紀川 健
日立製作所中央研究所
-
篠田 和典
日立製作所中央研究所
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谷口 隆文
日立製作所中央研究所
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篠田 和典
(株)日立製作所 中央研究所
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紀川 健
日立製作所 中央研究所
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谷口 隆文
日立製作所 中央研究所
-
谷口 隆文
日立製作所
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