電界吸収型光変調器集積DFBレーザにおける前端面光反射の伝送特性に与える影響

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概要

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• 電界吸収(EA)型光変調器をモノリシック集積化したDFBレーザはコンパクトな低チャープ光源として既に実用化に至っている。この低チャープ化による伝送特性の改善を再現よく実現するには、前端面反射率(Rf)を低減し戻り光による素子間の光学的なクロストークを十分に抑制することが必須である。今回、この戻り光チャープが伝送特性に与える影響を解析する伝送シュミレータを開発し、前端面反射率の伝送特性に与える影響を定量的に明らかにしたので報告する。

• 社団法人電子情報通信学会の論文
• 1996-09-18

著者

• 高嶋 重弘

  株式会社日立製作所通信事業部

• 高嶋 重弘

  日本オプネクスト株式会社

• 青木 雅博

  (株)日立製作所 中央研究所

• 青木 雅博

  日立製作所

• 藤原 祥隆

  日立製作所情報通信事業部

• 高嶋 重弘

  日立製作所情報通信事業部

• 青木 聡

  日立製作所情報通信事業部

• 青木 聡

  日立製作所光技術開発推進本部

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