選択MOVPEを用いたDFBレーザの波長制御技術と応用
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概要
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光ファイバの膨大な伝送帯域(>1THz)を有効活用できる波長/周波数多重(WDM/FDM)伝送は将来のTb/s光伝送の実現のみならず、光・電子素子の動作速度限界を回避できるポスト10Gb/s技術として実用化が期待されている。この実現に不可決なWDM/FDM光源に要求される課題は、(1)厳密な波長/周波数の制御性と安定性、(2)チャンネル間の特性の均一性、および(3)経済性である。この同時達成には、同一基板上に発振波長の異なるレーザを有する集積化多波長光源が有望であり、同一基板上で発振波長を人為的に制御する技術が不可欠である。最近,選択成長技術を用いて、同時成長する光導波路結晶の膜厚を変化させることにより光導波路の有効屈折率を基板面内で制御する波長多重化技術が注目されている。この手法によれば、作製工程の簡素化が期待できるだけでなく、従来法では不可能であった離調量の制御が可能となるため、今後WDM技術の実用化ヘ向けて期待が大きい。今回、上記手法を多波長DFBレーザアレイ光源および光変調器をモノリシック集積した波長多重光源に適用して良好な素子特性を得たので報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-09-05
著者
-
鈴木 誠
横浜市立大学一般外科
-
青木 雅博
日立製作所中央研究所
-
奥野 八重
日立製作所中央研究所
-
鈴木 誠
日立製作所中央研究所
-
青木 雅博
(株)日立製作所 中央研究所
-
青木 雅博
日立製作所
-
鈴木 誠
日立製作所 中央研究所
-
古森 正明
日立製作所中央研究所
-
古森 正明
(株)日立製作所 中央研究所
-
鈴木 誠
日立 中研
-
古森 正明
(株)日立製作所中央研究所
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