シリコンシャドーマスクを用いたMOVPEによる1.3μm帯ビーム拡大器集積レーザ
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概要
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光部品の低価格化への主要技術として、発光素子にビーム拡大器(BEX: Beam Expander)をモノリシック集積することによりレンズ機能を付加する研究か活発である。今回、シリコンシャドーマスクを用いたMOVPE(Si-SMG: Silicon Shadow Mask Growth)による基板面内膜厚変調技術を新規開発し、リッジ(RWG)導波路構造と組み合わせることにより、簡易な構造/作製で且つ高性能、高信頼動作が可能なBEX-LDの実現を図ったので報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-03-11
著者
-
鈴木 誠
横浜市立大学一般外科
-
辻 伸二
日立製作所株式会社
-
佐藤 宏
日立中研
-
大歳 創
日立製作所中央研究所
-
魚見 和久
日立製作所中央研究所
-
鈴木 誠
日立製作所中央研究所
-
青木 雅博
(株)日立製作所 中央研究所
-
青木 雅博
日立製作所
-
大歳 創
日立中研
-
鈴木 誠
日立製作所 中央研究所
-
魚見 和久
日本オプネクスト株式会社
-
古森 正明
日立製作所中央研究所
-
佐藤 宏
日立製作所中央研究所
-
古森 正明
(株)日立製作所 中央研究所
-
高橋 誠
日立製作所中央研究所
-
大歳 創
日立製作所
-
魚見 和久
(株)日立製作所 中央研究所
-
佐藤 宏
日立製作所 日立研究所
-
古森 正明
(株)日立製作所中央研究所
-
辻 伸二
日立製作所中央研究所
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