コア膜厚/ストライプ幅変調型ビーム拡大機能集積化LDの特性解析
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概要
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光モジュールの実装コスト低減のために,出射ビームの拡大器(Beam Expander:BEX)を集積した狭放射角半導体レーザの研究が盛んである。今回,コア膜厚・ストライプ幅の両者を変調したBEXを集積した半導体レーザの特性を,逆メサリッジ型と埋め込み型とについてBPM解析により比較したので報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-09-05
著者
-
高橋 誠
(株)日立製作所中央研究所
-
辻 伸二
日立製作所株式会社
-
佐藤 宏
日立中研
-
大歳 創
日立製作所中央研究所
-
青木 雅博
(株)日立製作所 中央研究所
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青木 雅博
日立製作所
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大歳 創
日立中研
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佐藤 宏
日立製作所中央研究所
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高橋 誠
日立製作所中央研究所
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大歳 創
日立製作所
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佐藤 宏
日立製作所 日立研究所
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辻 伸二
日立製作所中央研究所
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