advancing front法を用いた三次元格子生成における安定性の向上
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概要
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半導体プロセスデバイスシミュレータにおいては通常Delaunay分割条件を満足する格子が用いられる。advancing front法はそのような格子の生成に適用できる比較的平易な算法である。しかしながら、この算法を、以前我々が提案した界面保護格子生成に適した格子生成方式に適用すると、処理に行き詰まる可能性がある。そのような格子生成失敗の確率を低減し、効率的で安定に実行できる処理アルゴリズムとその効果について報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2000-09-15
著者
-
羽根 正巳
日本電気株式会社シリコンシステム研究所
-
田中 克彦
MIRAI-Selete
-
羽根 正巳
NECエレクトロニクス株式会社LSI基礎開発研究所
-
羽根 正巳
Necシステムデバイス・基礎研究本部
-
羽根 正巳
日本電気株式会社システムデバイス研究所
-
田中 克彦
NECシステムデバイス・基礎研究本部
-
野津 明男
NEC情報システムズ科学技術システム事業部
-
野津 明男
Nec情報システム
-
羽根 正巳
ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部
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