Effects of Dielectric-Layer Composition on Growth of Self-Formed Ti-Rich Barrier Layers in Cu(1at% Ti)/Low-k Samples
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概要
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- Japan Institute of Metalsの論文
- 2008-09-01
著者
-
ITO Kazuhiro
Department of Materials Science and Engineering, Kyoto University
-
MURAKAMI Masanori
The Ritsumeikan Trust
-
MURAKAMI Masanori
Department of Cardiovascular Surgery, Shakaihoken Tokuyama Central Hospital, Shunan
-
伊藤 和博
Department Of Materials Science And Engineering Kyoto University
-
伊藤 和博
京都大学大学院工学研究科
-
村上 正紀
学校法人立命館
-
村上 正紀
The Ritsumeikan Trust
-
KOHAMA Kazuyuki
Department of Materials Science and Engineering, Kyoto University
-
TSUKIMOTO Susumu
Department of Materials Science and Engineering, Kyoto University
-
MORI Kenichi
Process Technology Development Division Renesas Technology Corporation
-
MAEKAWA Kazuyoshi
Process Technology Development Division Renesas Technology Corporation
-
守山 実希
京都大学大学院工学研究科材料工学専攻
-
Tsukimoto Susumu
Department Of Materials Science And Engineering Kyoto University
-
Tsukimoto Susumu
Department Of Quantum Engineering Nagoya University
-
Mori Kenichi
Process Development Dept. Process Technology Development Div. Production And Technology Unit Renesas
-
Ito Kazuhiro
Department Of Materials Science And Engineering Kyoto University
-
Murakami Masanori
Department Of Applied Chemistry Tokyo Institute Of Technology
-
Ito Kazuhiro
Department Of Cardiovascular And Thoracic Surgery Kyoto Prefectural University Of Medicine
-
Tsukimoto Susumu
World Premier International Research Center Advanced Institute For Materials Research Tohoku Univers
-
Kohama Kazuyuki
Department Of Materials Science And Engineering Kyoto University
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