ポリイミドフィルムへのTaAl-N薄膜の形成 : 広領域真空センサ応用への可能性の検討
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概要
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The temperature dependence of the electrical resistivity of TaAl-N thin film was investigated and the characteristics of the thin film was applied to measure a pressure over a wide range in vacuum. The thin films, having been prepared by reacted DC magnetron sputtering method and deposited on the polyimide sheet, have characteristics that make them suitable for using as the thermo-conductive vacuum sensor; a large effective sensing area, a small heat capacity, and a large temperature coefficient of the resistivity (TCR) compared to a metal wire. The thin films was found sensitive to pressure change in the range of 10-4 to 105 Pa.
- 日本真空協会の論文
- 2006-03-20
著者
-
岡野 夕紀子
(株)岡野製作所
-
田尻 修一
(株)岡野製作所
-
青園 隆司
(株)岡野製作所
-
岡本 昭夫
大阪府立産業技術総合研究所
-
小川 倉一
小川創造技術研究所
-
美馬 宏司
大阪市立大学
-
小川 倉一
(財)大阪産業振興機構
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