TaAl-Nを用いた薄膜マイクロ真空センサの開発(センサーデバイス,MEMS,一般)
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概要
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反応性スパッタ法により作製した高TCR(抵抗温度係数)のTaAl-N複合薄膜を用いた薄膜マイクロセンサを開発し、大気圧から10^<-4>Paまでの広い圧力領域で計測可能な真空計について製品化の可能性を確認した。本報告ではそれらの開発内容ならびにこれまで実現し得なかった新しい圧力計測システムへの可能性についても述べる。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2009-07-23
著者
-
岡野 夕紀子
(株)岡野製作所
-
田尻 修一
(株)岡野製作所
-
青園 隆司
(株)岡野製作所
-
岡本 昭夫
大阪府立産業技術総合研究所
-
小川 倉一
小川創造技術研究所
-
美馬 宏司
大阪市立大学
-
岡野 夕紀子
株式会社岡野製作所
-
田尻 修一
株式会社岡野製作所
-
青園 隆司
株式会社岡野製作所
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