Pd doped TiO_2薄膜の電気的特性に対するアンモニアの影響
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2000-03-20
著者
関連論文
- Ta-Al複合ターゲットを用いた反応性スパッタ法による窒化物薄膜の形成
- イオンビームスパッタ法によるPbTiO_3薄膜の作製
- CrSiC 系複合薄膜による高性能力覚センサの試作
- CrSiC系複合薄膜による高性能力覚センサの試作
- ホローカソード方式イオンプレーティング法で作製したTi/TiN多層皮膜の耐食・耐摩耗性
- 光触媒能を持つ針状微粒子TiO_2の調製(半導体エレクトロニクス)
- 角柱状酸化チタンサブミクロン微粒子の調製
- プラズマスパッタ法により作製したAu-C複合薄膜の電気化学式ガスセンサーへの検討
- Ar, CH_4 混合ガス中での低電圧スパッタにより作製した Au-CH 薄膜 (II)
- スパッタ法による電界放射カソードの試作
- IBS法によるTa_2O_5膜のシリコン上への成膜
- スパッタ法による電界放射エミッタ用tipの形状制御の可能性
- Ar, CH_4混合ガス中での低電圧スパッタにより作製したAu-C薄膜
- 酸素イオン照射により成膜したYBCO薄膜の組成に関する基板温度依存症
- 酸素イオンアシスト蒸着によるYBCO薄膜のTc向上化の成膜条件依存症
- プラズマモニタリングを用いたYBa_2Cu_3O_x薄膜の作製
- マグネトロンスパッタ法で作製した窒化銅膜のヨウ素化
- DCスパッタ法によるCrOx薄膜と圧力センサの可能性
- 低エネルギー酸素イオン照射によるYBCO薄膜の低温成長の可能性
- TaAl-Nを用いた薄膜マイクロ真空センサの開発(センサーデバイス,MEMS,一般)
- 電子サイクロトロン共鳴プラズマの照射による酸化インジウム・スズ薄膜の表面改質
- 高周波電力を重畳した直流反応性スパッタ法によるTaAl-N薄膜の作製
- 反応性スパッタ法により作製したTaAl-N薄膜の抵抗温度係数の窒素分圧依存性
- ポリイミドフィルムへのTaAl-N薄膜の形成 : 広領域真空センサ応用への可能性の検討
- 3-アクリジノ-ル誘導体のピエゾクロミズムと構造
- 構造材料へのイオン注入技術の応用とその研究動向
- 磁性酸化鉄(III)微粒子を利用した微細藻類懸濁水の超伝導高勾配磁気分離
- Pd doped TiO_2薄膜の電気的特性に対するアンモニアの影響
- 四重極型質量分析計におけるパターン係数のイオン源による違い
- マグネトロンスパッタ法による酸化チタン膜の作製と光触媒膜への応用
- 高周波マグネトロンスパッタ法による窒化銅膜の作製
- 水素ガス雰囲気下でのPt極薄膜の電気伝導-膜厚の効果-
- マルチキャピラリーガス導入を用いた励起線源による窒化炭素薄膜の形成
- CrN_薄膜を用いたサーミスタボロメータ型赤外線センサの開発
- レーザアブレーション法を用いたLiNbO_3薄膜の作製
- マルチキャピラリーガス導入を用いた励起線源による炭素薄膜の形成
- 反応性マグネトロンスパッタ法によるポリカーボネート上へのAIN薄膜の低温形成
- Pt極薄膜の電気伝導へのガス種の影響
- 形状記憶合金薄膜アクチュエータの力学特性と制御
- YBCOマイクロブリッジによる赤外線の応答
- ゾルーゲル着色用有機顔料の熱分析
- 凹凸型単分散ゲル微粒子の一段階による調製 : II. ゲル微粒子の生成機構
- 凹凸型単分散ゲル微粒子の一段階による調製 : I. 調製条件の影響
- PEGブロック含有アゾ重合開始剤によるコアシェル型凹凸ゲル微粒子の合成と分離材料への応用
- 一回の重合による凹凸型単分散ゲル微粒子の調製とその特性
- アクリルシリコーン/シリカ・ナノ複合材料の撥水性(2) : 撥水膜の表面特性におよぼす合成時における水の添加効果
- マクロアゾ重合開始剤を用いて合成したコア-シェル型微粒子の特性と複合化
- アクリルシリコーン/シリカ・ナノ複合材料の撥水性(1)表面撥水性におよぼす調製時の溶媒およびアクリルシリコーン, シランカップリング剤添加の影響
- ヒドロキシプロピルセルロース溶液中におけるシリカ微粒子の合成(2) : 微粒子のキャラクタリゼーション
- ヒドロキシプロピルセルロース溶液中におけるシリカ微粒子の合成(1) : 微粒子の生成および形態に及ぼす溶媒およびヒドロキシプロピルセルロースの分子量の影響
- アクリルシリコーン/シリカ系ナノ複合材料の超撥水性
- 電気化学式ガスセンサ用PTFE電極のプラズマエッチング効果
- TiNi薄膜マイクロアクチュエータの電流加熱結晶化熱処理法 : 可逆型TiNi薄膜の場合の変形特性と組織分析
- 可逆形状記憶合金薄膜アクチュエータの試作と変態特性
- SMA薄膜アクチュエータの力学特性と制御
- 反応性RFマグネトロンスパッタ法により作製したCr-N薄膜のRFパワー依存性
- プロパルギルアミンモノマーを用いたプラズマ重合膜の作製
- スパッタ法により形成したAlN/Cu/AlN積層膜の電気・光学特性
- RF型マルチキャピラリ-イオン源の試作 (第30回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- 超電導NbTi薄膜による磁気遮蔽効果 (第27回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和61年11月12日〜14日,大阪)
- 小型高性能力覚センサを用いたロールツーロールスパッタ装置用張力計測システムの試作
- SUS304への窒素イオン注入による窒化物生成について
- 高周波マルチキャピラリーイオン源による酸素励起線の発生
- サマリー・アブストラクト
- サマリー・アブストラクト
- サマリー・アブストラクト
- 酸化物超電導体と金属薄膜コンタクトについて
- マグネトロンスパッタ法による光干渉発色性繊維の作製
- 同時蒸着法によるテトラフルオロエチレンオリゴマー (TFEO) -Au複合膜の作製
- 小型高性能力覚センサを用いたロールツーロールスパッタ装置用張力計測システムの試作
- 低周波 (60Hz) プラズマによるピッチ炭素繊維の表面改質
- コバルト蒸着膜の磁気特性
- Bi-Pb-Sr-Ca-Cu-O薄膜の作製 (1)
- 長い円管導管を通過した分子流気体分子のフローパターン
- 反応性RFマグネトロンスパッタ法によるZr-C薄膜の作製
- 低エネルギー酸素イオンアシスト蒸着により作製したCu-O薄膜
- Cu蒸着時における低エネルギー酸素イオン照射効果
- Ti-B積層膜へのパルスイオンビーム照射効果
- 反応性スパッタにより作製した酸化タンタル薄膜の特性
- RFマグネトロンスパッタ法により作製したCr-N薄膜
- イオン-ビームスパッタ法によるLn-Ba-Cu-O薄膜の作製
- RFプラズマCVD法によるDLC膜の生成とその摩擦・摩擦特性
- 電気泳動堆積法による針状酸化チタン微粒子のステンレス鋼板への固定化
- IBSによるYBCO超伝導薄膜の作成 (第28回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- フッ化水素ガスセンサ用Pt-O薄膜電極の作製
- RF型マルチキャピラリ-イオン源の試作 (第30回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- AlN/Ag/AlN ナノ積層化による低抵抗透明導電膜の作製
- AlN/Al/AlNナノ積層膜の作製と光学的特性