AlN/Ag/AlN ナノ積層化による低抵抗透明導電膜の作製
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概要
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Low resistivity transparent conductive coating consisting of AlN/Ag/AlN nano-multilayer film was fabricated using New Magnetic Hollow-Cathode V-type Sputtering Systems. The electrical and optical properties of multilayer films have been examined. A minimum sheet resistance of less than 10 Ohm/sq. and a maximum transmittance of >90% were obtained for AlN (40 nm)/Ag (10 nm)/AlN (40 nm) on Polyethylene terephthalate substrate.
- 一般社団法人 日本真空学会の論文
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