小川 倉一 | (財)大阪産業振興機構

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概要

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• (財)大阪産業振興機構の論文著者

関連著者

• 小川 倉一

  (財)大阪産業振興機構

• 岡野 夕紀子

  (株)岡野製作所

• 田尻 修一

  (株)岡野製作所

• 青園 隆司

  (株)岡野製作所

• 岡本 昭夫

  大阪府立産業技術総合研究所

• 小川 倉一

  小川創造技術研究所

• 美馬 宏司

  大阪市立大学

• 西川 雅章

  (株)大阪真空機器製作所

• 原口 孝之

  (株)大阪真空機器製作所

• 植田 吉彦

  (株)大阪真空機器製作所

• 竹下 和義

  (株)大阪真空機器製作所

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著作論文

• 反応性スパッタ法により作製したTaAl-N薄膜の抵抗温度係数の窒素分圧依存性
• ポリイミドフィルムへのTaAl-N薄膜の形成 : 広領域真空センサ応用への可能性の検討
• 傾斜型対向ターゲット(V型カソード)による高速成膜へのアプローチ
• 低温・低ダメージプロセスによるインジウム-スズ酸化物(ITO)薄膜の作製
• 気相薄膜形成技術--応用編(第1回)低温プロセスによるITO薄膜形成技術

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