佐本 典彦 | NEC関西エレクトロニクス研究所
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概要
関連著者
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佐本 典彦
NEC関西エレクトロニクス研究所
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佐本 典彦
日本電気株式会社関西エレクトロニクス研究所
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佐本 典彦
日本電気株式会社光・無線デバイス研究所
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葛原 正明
NEC関西エレクトロニクス研究所
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分島 彰男
財団法人新機能素子研究開発協会:日本電気株式会社ナノエレクトロニクス研究所
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分島 彰男
日本電気(株)関西エレクトロニクス研究所
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恩田 和彦
NEC関西エレクトロニクス研究所
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宮本 広信
NEC関西エレクトロニクス研究所
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安藤 裕二
NEC関西エレクトロニクス研究所
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牧野 洋一
日本電気(株) 関西エレクトロニクス研究所
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Contrata Walter
Nec関西エレクトロニクス研究所
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恩田 和彦
日本電気株式会社化合物デバイス事業部
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山之口 勝己
日本電気株式会社ナノエレクトロニクス研究所
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佐本 典彦
日本電気(株) 関西エレクトロニクス研究所
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分島 彰男
NEC関西エレクトロニクス研究所
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牧野 洋一
NEC関西エレクトロニクス研究所
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山之口 勝己
NEC関西エレクトロニクス研究所
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冨士原 明
日本電気株式会社光・無線デバイス研究所
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安藤 裕二
Nec 光・無線デバイス研究所
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堀 恭子
Nec関西エレクトロニクス研究所
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ウォルター コントラッタ
Nec関西エレクトロニクス研究所
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水木 恵美子
NEC関西エレクトロニクス研究所
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中山 達峰
NEC関西エレクトロニクス研究所
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水木 恵美子
日本電気株式会社光・無線デバイス研究所
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大石 恵美
NEC関西エレクトロニクス研究所
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岩田 直高
NEC関西エレクトロニクス研究所
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金森 幹夫
NEC化合物デバイス事業部
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Contrata W.
NEC光・無線デバイス研究所
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牧野 洋一
日本電気(株)関西エレクトロニクス研究所
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山之口 勝己
日本電気(株)関西エレクトロニクス研究所
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佐本 典彦
日本電気(株)関西エレクトロニクス研究所
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丸橋 健一
NEC関西エレクトロニクス研究所
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金森 幹夫
NEC関西エレクトロニクス研究所
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大畑 恵一
NEC関西エレクトロニクス研究所
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葛原 正明
(財)新機能素子研究開発協会 先進高周波デバイスr&dセンター
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葛原 正明
福井大学大学院工学研究科
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安藤 裕二
日本電気株式会社光・無線デバイス研究所
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大畑 恵一
日本電気株式会社 システムデバイス研究所
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根岸 均
NEC ULSIデバイス開発研究所
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梨本 泰信
NEC ULSIデバイス開発研究所
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丸橋 建一
Nec関西エレクトロニクス研究所
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コントラッタ ウォルター
Nec 関西エレクトロニクス研究所
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金森 幹夫
Nec Ulsiデバイス開発研究所
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大畑 恵一
Nec 光・無線デバイス研
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根岸 均
日本電気株式会社ULSIデバイス開発研究所
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梨本 泰信
日本電気株式会社ULSIデバイス開発研究所
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冨士原 明
NEC関西エレクトロニクス研究所
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コントラッタ ウォルター
NEC関西エレクトロニクス研究所
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佐本 典彦
NEC(株)関西エレクトロニクス研究所
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中山 達峰
NEC(株)関西エレクトロニクス研究所
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宮本 広信
NEC(株)関西エレクトロニクス研究所
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大石 恵美
NEC(株)関西エレクトロニクス研究所
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冨士原 明
日本電気株式会社関西エレクトロニクス研究所
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Contrata Walter
Nec光・無線デバイス研究所
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安藤 裕二
日本電気株大会社光・無線デバイス研究所
著作論文
- SiO_2膜埋込み0.13μmゲートミリ波帯高利得HJFET-MMIC増幅器御
- C-10-1 新規プロセス(EMMIE)を用いて作製した75GHz高利得HJFET MMIC増幅器
- ミリ波帯用0.14μmY型ゲートAlGaAs/InGaAs HJFET
- パッケージHJFETの雑音解析 : ゲート幅依存性
- InAlAs/InGaAs系ヘテロ接合FETに於けるデバイス特性のチャネル組成依存性
- InAlAs/InGaAs系ヘテロ接合FETの高信頼化
- GaAs FETモンテカルロ・シミュレータを用いた大信号動作解析
- GaAs FETモンテカルロ・シミュレータを用いた大信号動作解析
- Proposed Double-Doped Power Metamorphic HJFET for Low Voltage Operation
- InAlAs層にAlAs層を挿入した金属/InAlAs/AlAs/n-InAlAs構造のダイオード特性
- InAlAs/InGaAs系ヘテロ接合FET用高信頼オーミック電極
- In_Ga_As層の挿入によるIn_Al_As/In_Ga_Asヘテロ界面の平滑化
- モンテカルロ・シミュレータを用いたAlGaAs/InGaAs HJFETに於けるショックレイモデルの評価