越川 孝範 | 大阪電気通信大学エレクトロニクス基礎研究所
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
越川 孝範
大阪電気通信大学エレクトロニクス基礎研究所
-
安江 常夫
大阪電通大
-
越川 孝範
大阪電通大
-
越川 孝範
大阪電気通信大学
-
安江 常夫
大阪電気通信大学
-
安江 常夫
大阪電通大工
-
越川 孝範
大阪電通大エレクトロニクス基礎研
-
郭 方准
JASRI SPring-8
-
小林 啓介
JASRI SPring-8
-
郭 方准
Jasri
-
郭 方准
高輝度光科学研究センター
-
中西 彊
名古屋大学・大学院理学研究科
-
松下 智裕
Jasri
-
竹田 美和
名古屋大学シンクロトロン光研究センター
-
清水 宏
大阪電通大
-
中西 彊
名古屋大学 理学部 理博
-
山本 尚人
KEK
-
松下 智裕
JASRI, SPring-8
-
宇治原 徹
名古屋大学大学院工学研究科
-
奥見 正治
名古屋大学・大学院理学研究科
-
真野 篤志
名古屋大学・大学院理学研究科
-
中川 靖英
名古屋大学・大学院理学研究科
-
山本 尚人
名大工
-
金 秀光
名大工
-
宇治原 徹
名大工
-
坂 貴
大同工大
-
加藤 俊宏
大同特殊鋼
-
山本 将博
KEK
-
堀中 博道
大阪府立大学工学研究科
-
坂 貫
大同特殊鋼株式会社技術開発研究所
-
中口 明彦
大阪電通大
-
堀中 博道
大阪府立大学工学研究科電子物理工学分野
-
宇治原 徹
名古屋大学大学院工学研究科結晶材料工学専攻
-
Horinaka Hiromichi
Osaka Prefecture Univ. Sakai Jpn
-
Horinaka Hiromichi
Department Of Physics & Electronics Osaka Prefecture University
-
BAUER Ernst
アリゾナ州立大学物理天文学科
-
Bauer E.
アリゾナ州立大
-
奥見 正治
名古屋大学 理学部
-
木下 豊彦
JASRI, SPring-8
-
小林 啓介
物材機構
-
木下 豊彦
NEDO
-
木下 豊彦
Jasri
-
竹田 美和
名古屋大学
-
仙波 泰徳
JASRI, SPring-8
-
大橋 治彦
JASRI, SPring-8
-
斎藤 祐児
JAEA
-
大橋 治彦
理研xfel:jasri
-
仙波 泰徳
Jasri
-
辛 埴
理研 SPring-8
-
竹内 智之
JASRI, SPring-8
-
大浦 正樹
理研 SPring-8
-
脇田 高徳
岡山大院自然:jst-crest
-
脇田 高徳
Jasri
-
山本 尚人
名古屋大学大学院 工学研究科
-
竹田 美和
名古屋大学工学研究科結晶材料工学専攻
-
竹内 智之
理研 SPring-8
-
城戸 義明
立命館大理工
-
竹内 智之
Jasri Spring-8
-
室 隆桂之
高輝度光科学研究センター
-
斎藤 祐児
Jaeri
-
山本 尚人
名古屋大学シンクロトロン光研究センター
-
大橋 治彦
Jasri
-
室 桂隆之
JASRI SPring-8
-
山本 将博
名古屋大学理学研究科
-
前多 悠也
名古屋大学工学研究科
-
金 秀光
名古屋大学工学研究科
-
谷奥 雅俊
名古屋大学工学研究科
-
渕 真悟
名古屋大学工学研究科
-
坂 貴
大同工業大学工学部
-
堀中 博道
大阪府立大学
-
室 隆桂之
Jasri/spring-8
-
渕 真悟
名古屋大学大学院工学研究科
-
吉井 啓之
大阪電通大エレ研
-
松下 智裕
公益財団法人高輝度光科学研究センター(jasri)
-
Bauer E.
アリゾナ州大
-
宇治原 徹
名古屋大学 大学院工学研究科 マテリアル理工学専攻材料工学分野
-
桑原 真人
名古屋大学・大学院理学研究科
-
竹田 美和
名大工
-
鈴木 雅彦
大阪電通大
-
孝橋 照生
日立中研
-
大嶋 卓
日立中研
-
堀中 博道
阪府大工
-
斉藤 裕児
原研 SPring-8
-
池田 敦
立命館大学
-
齋藤 祐児
原研
-
Bauer Ernst
アリゾナ州立大学
-
李 日昇
大阪電通大エレ研
-
池田 敦
立命館大理工
-
Bauer E.
Arizona State Univ.
-
脇田 高徳
OECU
-
小林 啓介
OECU
-
天川 良太
大阪電通大
-
堀中 博道
大阪府立大学大学院工学研究科
-
Jalochowski M.
Univ. of Marie Curie-Sklodowska
-
上山 貴之
大阪電通大エレ研
-
高田 光晴
大阪電通大エレ研
-
Bauer Ernst
アリゾナ州大
-
室 隆桂之
JASRI
-
為則 雄祐
JASRI, SPring-8
-
奥田 太一
東大物性研
-
斉藤 祐児
原研 SPring-8
-
林 俊一
新日本製鐵(株)先端技術研究所
-
渡辺 義夫
JASRI SPring-8
-
渡辺 義夫
広大院理
-
林 俊一
東京工業大学
-
渡辺 義夫
Jasri
-
為則 雄祐
Jasri
-
為則 雄祐
Jasri/spring-8
-
生田 孝
大阪電通大
-
中西 彊
名古屋大学大学院理学研究科
-
孫 海林
東大物性研
-
城戸 義明
立命館大学理工学部物理科学科
-
住田 勲勇
松下技研株式会社
-
西村 智朗
立命館大理工
-
奥田 太一
広島大学放射光科学研究センター
-
小島 健太郎
大阪電気通信大学工学部応用電子工学科 エレクトロニクス基礎研究所
-
田中 英行
松下技研
-
生田 孝
大阪歯科大学 口腔解剖
-
木下 豊彦
高輝度光科学研究センター(jasri)
-
城戸 義明
立命館大 理工
-
松下 智祐
JASRI SPring-8
-
山下 憲一
大阪電通大エレ研
-
井元 健氏
立命館大理工
-
高橋 宏彰
大阪電通大
-
木村 吉秀
阪大院・工
-
尾形 篤
大阪電気通信大学工学部応用電子工学科 エレクトロニクス基礎研究所
-
木村 吉秀
阪大工
-
石田 考朗
立命館大学理工学部物理学科
-
林 俊一
新日本製鐵(株)
-
田中 英行
松下技研株式会社
-
Tamenori Y.
Jasri
-
住口 達雄
大阪電気通信大学工学部応用電子工学科,エレクトロニクス基礎研究所
-
李 日昇
大阪電気通信大学工学部応用電子工学科,エレクトロニクス基礎研究所
-
井元 健氏
立命館大学
-
木村 吉秀
大阪大 大学院工学研究科
-
管 武
大阪電気通信大学エレクトロニクス基礎研究所
-
仙波 泰徳
理研xfel:jasri
-
高島 弘樹
大阪電気通信大学工学部応用電子工学科,エレクトロニクス基礎研究所
-
高島 弘樹
大阪電気通信大学工学部応用電子工学科 エレクトロニクス基礎研究所
-
松下 智裕
Jasri/spring-8
-
大浦 正樹
理研spring-8センター
-
光川 幸治
大阪電通大エレ研
-
菅 武
大阪電通大エレ研
-
上山 貴之
大阪電通大工
-
和田 良夫
大阪電通大エレ研
-
住口 達雄
大阪電気通信大学工学部応用電子工学科 エレクトロニクス基礎研究所
-
高田 光晴
大阪電通大工
-
吉井 啓之
大阪電気通信大学エレクトロニクス基礎研究所
-
中西 彊
名古屋大学理学研究科
-
林 俊一
新日本製鐵 (株) 先端技術研究所
-
黒岩 直紀
大阪電気通信大学・エレクトロニクス基礎研究所 学術フロンティア推進センター
-
福島 勇樹
大阪電気通信大学・エレクトロニクス基礎研究所 学術フロンティア推進センター
-
RAJASEKAR P.
大阪電気通信大学・エレクトロニクス基礎研究所 学術フロンティア推進センター
-
李 日昇
大阪電気通信大学工学部
-
李 日昇
大阪電通大
-
小林 啓介
JASRI/SPring-8
著作論文
- 22pGL-1 スピン偏極電子ビームによる表面磁区構造変化の動画像観察(22pGL 領域3,領域9合同 表面・界面磁性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 22pGL-1 スピン偏極電子ビームによる表面磁区構造変化の動画像観察(22pGL 領域3,領域9合同 表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 22pPSB-13 BL17SU/SPring-8におけるLEEM/PEEM成果報告(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 26aYH-9 BL17SU/SPring-8における光電子顕微鏡の立ち上げ(26aYH 領域3,領域9合同 表面・界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 26aYH-9 BL17SU/SPring-8における光電子顕微鏡の立ち上げ(26aYH 領域3,領域9合同 表面・界面磁性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 歪み超格子スピン偏極電子源構造におけるバッファ層歪み緩和過程と偏極度の関係(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- LEEMによる鋼における動的挙動の観察
- 歪み超格子スピン偏極電子源構造におけるバッファ層歪み緩和過程と偏極度の関係(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 歪み超格子スピン偏極電子源構造におけるバッファ層歪み緩和過程と偏極度の関係(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料))
- 24aPS-118 分光型光電子・低エネルギー電子顕微鏡と放射光を用いる表面研究(表面・界面, 結晶成長,領域9(表面・界面, 結晶成長))
- 6p-H-12 中エネルギーイオン散乱法によるCu/Si(111)"5x5"構造の超高分解能解析
- 6p-H-8 中エネルギー反跳H検出法によるSi表面水素の分析
- 14aXD-1 SPring-8 における光電子顕微鏡 SPELEEM の利用(表面・界面磁性, 領域 3)
- 14pXG-2 SPring-8 光電子顕微鏡を用いた In, Co/Si(111) の観察(表面界面構造 : 半導体, 領域 9)
- 14aXD-1 SPring-8 における光電子顕微鏡 SPELEEM の利用(表面・界面磁性, 領域 9)
- 12aXF-4 Cu/W(110) の量子サイズ効果と PEEM 像のコントラスト(表面界面構造 : 金属・有機化合物, 領域 9)
- 28aWP-11 球面収差除去した高分解能光電子顕微鏡の開発(表面界面構造(半導体))(領域9)
- 絶対仕事関数測定顕微鏡の開発
- 低エネルギー電子顕微鏡と光電子顕微鏡による動的観察と構造解析
- 低エネルギー電子顕微鏡(LEEM)と光電子顕微鏡(PEEM)の表面研究への応用と将来展望
- LEEMによるSi(111)およびH/Si(111)上のCuナノ構造形成過程の動的観察と構造解析
- 低エネルギー電子顕微鏡(LEEM)と光電子顕微鏡(PEEM)の像形成過程と将来展望
- 中エネルギーイオン散乱法による高温におけるCu/Si(111)"5×5"構造の解析
- Na/Si(111)の成長過程と2次イオン放出
- 27aXE-8 水素終端Si(111)上のCu島の構造解析
- 23aW-8 LEEMを用いたSi(111)上でのCuアイランドの形成過程
- 二次イオン生成過程 : 電子トンネリングモデルと結合破壊モデル
- 共同研究成果報告 LEEM,SPE-LEEM等を用いた超薄膜成長の動的観察
- 走査トンネル顕微鏡による高温Si(111)上のCuの成長過程
- 6p-H-6 スタティックイオン衝撃によるアルカリ/Siにおける2次イオン中性化過程
- 3p-J-6 アルカリ/Siからの2次イオン放出過程
- 26a-YR-3 水素終端Si(111)上でのCu島成長過程
- 5p-B-8 水素終端されたSi(111)表面上でのCuの成長
- Cu/Si(111)成長における水素終端効果
- 31p-PSB-53 Cu/Si(111)成長におよぼす水素の影響
- 超高輝度・高偏極・長寿命スピン偏極低エネルギー電子顕微鏡の開発とスピントロニクス薄膜材料への応用
- 中エネルギーイオン散乱法を用いた表面界面研究
- Si(111) 表面上でのナノ構造形成過程の観察と構造解析
- 水素終端Si(111)におけるCu薄膜形成過程
- 水素終端Si(111)表面上でのCu薄膜の成長