水素終端Si(111)表面上でのCu薄膜の成長

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 1996-09-13

著者

• 安江 常夫

  大阪電通大

• 越川 孝範

  大阪電通大

• 越川 孝範

  大阪電気通信大学エレクトロニクス基礎研究所

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