28a-WB-7 中エネルギーイオン散乱法によるCu/Si(111)"5x5"の表面構造

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 1994-03-16

著者

• 安江 常夫

  大阪電通大

• 越川 孝範

  大阪電通大

• 城戸 義明

  立命館大理工

• 石田 考朗

  立命館大理工

• 尾形 篤

  大阪電気通信大学工学部応用電子工学科 エレクトロニクス基礎研究所

• 石田 考朗

  立命館大学理工学部物理学科

• 尾形 篤

  大阪電通大

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