4a-PS-36 中速イオン散乱分光法によるCu/Si(111)の成長過程

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 1990-09-12

著者

• 安江 常夫

  大阪電通大

• 越川 孝範

  大阪電通大

• 工藤 正博

  材料科学技術振興財団

• 永山 進

  (財)材料科学技術振興財団

• Park C.

  全北大

• 城片 義明

  立命館大理工

• 永山 進

  材料科学技術財団

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