Cu/Si(111)成長における水素終端効果
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概要
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- 日本表面科学会の論文
- 1996-07-10
著者
-
越川 孝範
大阪電気通信大学
-
安江 常夫
大阪電気通信大学
-
吉井 啓之
大阪電通大エレ研
-
吉井 啓之
大阪電気通信大学エレクトロニクス基礎研究所
-
越川 孝範
大阪電気通信大学エレクトロニクス基礎研究所
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