中エネルギーイオン散乱法による高温におけるCu/Si(111)"5×5"構造の解析
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概要
著者
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越川 孝範
大阪電気通信大学
-
安江 常夫
大阪電気通信大学
-
城戸 義明
立命館大学理工学部物理科学科
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尾形 篤
大阪電気通信大学工学部応用電子工学科 エレクトロニクス基礎研究所
-
石田 考朗
立命館大学理工学部物理学科
-
越川 孝範
大阪電気通信大学エレクトロニクス基礎研究所
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