17-13 シリコンマイクロホンの低電圧化に向けた振動膜薄膜化技術(第17部門 情報センシング2)
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概要
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Toward an ultra-small high-performance microphone for the next generation, we are studying a silicon microphone. In recent research, we developed a fabricating process which enabled a thin diaphragm (2.3μm). By using this process 12-V operation microphone for in-car use can be possible.
- 2006-08-01
著者
-
後藤 正英
NHK放送技術研究所
-
安野 功修
財団法人小林理学研究所
-
田島 利文
NHK放送技術研究所
-
井口 義則
NHK放送技術研究所
-
小野 一穂
NHK放送技術研究所
-
杉本 岳大
NHK放送技術研究所
-
安藤 彰男
NHK放送技術研究所
-
谷岡 健吉
NHK放送技術研究所
-
武子 太司
パナソニック半導体デバイスソリューションズ株式会社
-
日森 徹
パナソニック半導体デバイスソリューションズ株式会社
-
小野 一穂
NHK技研
-
杉本 岳大
Nhk放送技研
-
安野 功修
パナソニックscデバイスソリューションズ(株)
-
安藤 彰男
工学院大学 情報学部
-
井口 義則
日本放送協会放送技術研究所新機能デバイス研究部
-
安藤 彰男
NHK放送技術研究会
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