軟X線照射によるシリコンマイクロホン用エレクトレットの作製

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概要

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• To develop an ultraminiature high-performance microphone for the next generation, we have been studying a silicon microphone. We previously fabricated a single-crystalline silicon microphone using original MEMS technology. The prototype microphone showed excellent acoustic characteristics such as high sensitivity and wide frequency range. Aiming at low-voltage operation, we have recently developed a novel electret charging technique using soft X-ray irradiation. This technique leads to removing the 48-V bias voltage. Experimental results show that an internal inorganic dielectric film keeps electric charges and has excellent heat resistance. This technique exhibits promise for developing a low-voltage operation silicon microphone for purposes ranging from broadcasting to consumer use.

著者

• 後藤 正英

  NHK放送技術研究所

• 井口 義則

  財団法人NHKエンジニアリングサービス

• 安野 功修

  財団法人小林理学研究所

• 児玉 秀和

  財団法人小林理学研究所

• 樹所 賢一

  リオン株式会社

• 井口 義則

  NHK放送技術研究所

• 後藤 正英

  NHK 放送技術研究所

• 萩原 啓

  NHK 放送技術研究所

• 田島 利文

  NHK 放送技術研究所

• 田島 利文

  Nhk 放送技研

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