軟X線照射を用いたシリコンマイクロホン電荷蓄積技術の開発(センサーデバイス,MEMS,一般)
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概要
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次世代の超小型で高性能なマイクロホンの実現に向けて、シリコンマイクロホンの研究を進めている。これまでに、単結晶シリコンによる独自のMEMS技術で試作した放送用のシリコンマイクロホンが、優れた音響特性と耐環境性能をもつことを確認した。今回、本マイクロホンの機動性の向上を目的に、電荷をマイクロホンの内部に蓄積してバイアス電圧の印加を不要にできる電荷蓄積型シリコンマイクロホンの開発に取り組み、軟X線照射を用いた新しい電荷蓄積技術を開発した。原理実証の実験を行った結果、マイクロホン内部の誘電体膜に電荷を蓄積できることと、この膜が優れた電荷保持特性をもつことを確認したので報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2009-07-23
著者
-
後藤 正英
NHK放送技術研究所
-
萩原 啓
NHK放送技術研究所
-
井口 義則
財団法人NHKエンジニアリングサービス
-
安野 功修
財団法人小林理学研究所
-
児玉 秀和
財団法人小林理学研究所
-
樹所 賢一
リオン株式会社
-
田島 利文
NHK放送技術研究所
-
井口 義則
NHK放送技術研究所
-
樹所 賢一
リオン(株)
-
樹所 賢一
リオン
-
井口 義則
日本放送協会放送技術研究所新機能デバイス研究部
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