アバランシェ増倍膜積層型イメージセンサ用MOSトランジスタの高耐圧化
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概要
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受光部にアバランシェ増倍膜を積層を積層した高感度イメージセンサの開発に取り組んでいる。このセンサでは, 膜に高い電圧を印加してアバランシェ増倍させることで高い感度を得ているが, 一方で, 膜中に局所的な欠陥がある場合などには, 高い電圧の影響で下地のMOSトランジスタか破壊されるという問題がある。そこで今回, 高耐圧化MOSトランジスクの構造を考案し, 試作及び特性評価を行った。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-03-06
著者
-
田島 利文
NHK放送技術研究所
-
阿部 正英
広島国際大学社会環境科学部
-
山内 正仁
NHK放送技術研究所
-
大竹 浩
日本放送協会放送技術研究所
-
阿部 正英
日本放送協会放送技術研究所
-
山内 正仁
日本放送協会
-
中山 美穂
日本放送協会放送技術研究所
-
田島 利文
日本放送協会 放送技術研究所
-
中山 美穂
Nhk放送技術研究所
-
中山 美穂
Nhk放送技術研究所 立体映像音響
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