全光イコライゼーションによる高速光変調の検討(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
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概要
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高速光変調は,次世代の光通信システムの高速化,大容量化において重要な技術である.これまでに,半導体レーザの直接変調帯域,電気光学型および電界吸収型の外部変調器において,数10Gbit/sでの強度変調信号の生成が可能となっている.一方,電気処理や光領域おけるイコライゼーションにより,変調帯域を増大させることで低速なデバイスを高速化する手法も提案されている.そこで本研究では,グレーティングフィルタ型およびエタロン型光イコライザを用いた光領域でのイコライゼーションについて検討し,LiNbO3変調器,EA変調器および直接変調DFBレーザにおいて,変調帯域が増大することを確認した.
- 2008-07-17
著者
-
小山 二三夫
東京工業大学精密工学研究所
-
坂口 孝浩
東京工業大学精密工学研究所
-
長谷部 浩一
東京工業大学 精密工学研究所 マイクロシステム研究センター
-
小山 二三夫
東京工業大学精密工学研究所マイクロシステム研究センター
-
小山 二三夫
東京工業大学
-
坂口 孝浩
東京工業大学精密工学研究所マイクロシステム研究センター
-
CHANG-HASNAIN Connie
カリフォルニア大学バークレー校
-
ZHAO Xiaoxue
カリフォルニア大学バークレー校
-
長谷部 浩一
東京工業大学精密工学研究所マイクロシステム研究センター
-
Chang-hasnain Connie
カリフォルニア大バークレー校
-
坂口 孝浩
東京工業大学 精密工学研究所
-
坂口 孝浩
東京工業大学
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