Fine Pattern Etching of W-Ti Absorber for X-Ray Mask with Electron Cyclotron Resonance Discharge Plasmas
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1993-12-30
著者
-
Sasaki K
Advanced Technology R&d Center Mitsubishi Electric Corporation
-
MATSUI Yasuji
Semiconductor Research Laboratory, Mitsubishi Electric Corporation
-
MARUMOTO Kenji
Semiconductor Research Laboratory, Mitsubishi Electric Corporation
-
YABE Hideki
Semiconductor Research Laboratory, Mitsubishi Electric Corporation
-
AYA Sunao
Semiconductor Research Laboratory, Mitsubishi Electric Corporation
-
MATSUBA Motoko
Semiconductor Research Laboratory, Mitsubishi Electric Corporation
-
SASAKI Kei
Manufacturing Development Laboratory, Mitsubishi Electric Corporation
-
WATAKABE Yaichiro
ULSI R & D Laboratory, Mitsubishi Electric Corporation
-
Aya S
Advanced Technology R&d Center Mitsubishi Electric Corporation
-
Yabe H
Advanced Technology R&d Center Mitsubishi Electric Corporation
-
Marumoto K
Advanced Technology R&d Center Mitsubishi Electric Corporation
-
Matsuba Motoko
Semiconductor Research Laboratory Mitsubishi Electric Corporation
-
Watakabe Y
Mitsubishi Electric Corp. Itami
-
Matsui Yasuji
O Ntt Lsi Laboratories
-
Matsui Yasuji
Semiconductor Research Laboratory Mitsubishi Electric Corporation
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