MBE成長高濃度p型GaAsの過剰減衰LOフォノン-プラズモン結合モードによるラマン散乱
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概要
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Raman scattering spectra are measured for Be doped p-GaAs epitaxial films grown on the semi-insulating GaAs substrate by the Molecular Beam Epitaxy (MBE) method. The obtained spectra are analyzed by assuming the following three kind of elementary excitations : (i) Pure LO phonon mode at the surface depletion layer, (ii) the coupling mode between LO phonon and plasmon through the so-called deformation potential and electrooptic mechanism, (iii) TO phonon mode coupled with the single-particle excitation through the so-called Fano effect. The calculated spectra well represent the experimental Raman spectral profiles. In the Raman scattering by LO phonon-plasmon coupled mode for heavily doped p-GaAs, the splitting into L_+ and L_- modes is not observed due to the over damping of plasmon originated from the short relaxation time and large effective mass of the free hole.
- 東海大学の論文
著者
-
若木 守明
東海大学工学部
-
奥村 元
産業技術総合研究所
-
奥村 元
電子技術総合研究所
-
奥村 元
産業技術総合研
-
若木 守明
東海大学工学
-
深澤 亮一
東海大学工学研究科
-
太田 公広
電子技術総合研究所
-
深澤 亮一
日本分光工業
-
深沢 亮一
東海大工
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