CVD法及びPVD法で成膜した炭素膜のRaman散乱による構造評価
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概要
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Carbon films were deposited with CVD method (CH_4 decomposition by RF glow discharge) and PVD method (CO_2 laser evaporation). Optical measurements, mainly with Raman scattering, were carried out for carbon films deposited at various substrate and annealing temperatures. The microscopic structure of the films were estimated and discussed on the basis of the results. Composite structure model assuming three different phases within the film was proposed.
- 東海大学の論文
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