電子線ホログラフィーによる電界効果トランジスタ内二次元電位分布解析
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概要
著者
-
佐々木 勝寛
名古屋大学工学部
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坂 公恭
名古屋大学工学部
-
平山 司
(財)ファインセラミックスセンター材料技術研究所研究第一部
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加藤 丈晴
(財)ファインセラミックスセンター
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加藤 直子
株式会社アイテス品質技術部
-
坂 公恭
名古屋大
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坂 公恭
名古屋大学大学院工学研究科
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坂 公恭
名古屋大学工学部量子工学
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佐々木 勝寛
名古屋大学大学院工学研究科・量子工学専攻
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加藤 丈晴
(財)ファインセラミックスセンターナノ構造研究所 ナノスコピー・シュミレーション部
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加藤 丈晴
(財)ファインセラミックスセンターナノ構造研究所
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坂 公恭
名古屋大 大学院工学研究科
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平山 司
(財)ファインセラミックスセンター ナノ構造研究所
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坂 公恭
名大・大学院
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王 洲光
(財)ファインセラミックスセンター
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加藤 直子
(株)アイテス 技術事業部 品質技術部
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王 洲光
財団法人ファインセラミックスセンター
-
坂 公恭
名古屋大学
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