加藤 直子 | 株式会社アイテス品質技術部
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概要
関連著者
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加藤 直子
株式会社アイテス品質技術部
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坂 公恭
名古屋大学
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坂 公恭
名古屋大学工学部
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加藤 直子
(株)アイテス 技術事業部 品質技術部
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坂 公恭
名大・大学院
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佐々木 勝寛
名古屋大学大学院工学研究科・量子工学専攻
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王 洲光
財団法人ファインセラミックスセンター
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佐々木 勝寛
名古屋大学工学部
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坂 公恭
名古屋大学工学部量子工学
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坂 公恭
名古屋大
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坂 公恭
名古屋大学大学院工学研究科
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坂 公恭
名古屋大 大学院工学研究科
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平山 司
財団法人ファインセラミックスセンター
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加藤 丈晴
(財)ファインセラミックスセンターナノ構造研究所 ナノスコピー・シュミレーション部
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加藤 丈晴
(財)ファインセラミックスセンターナノ構造研究所
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加藤 直子
アイテス 技術事業部
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西川 明
(株)アイテス半導体故障解析
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松澤 寿一
株式会社アイテス
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加藤 直子
株式会社アイテス
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坂 公恭
名大・工
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坂 公恭
名古屋大学工学研究科
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松澤 寿一
(株)アイテス半導体故障解析
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平山 司
ファインセラミックスセンター
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西村 一実
新日本製鐵(株) 鉄鋼研究所 表面処理研究部
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平山 司
(財)ファインセラミックスセンター材料技術研究所研究第一部
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加藤 丈晴
(財)ファインセラミックスセンター
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平山 司
JFCC
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森本 康秀
新日本製鐵(株) 鉄鋼研究所
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平山 司
(財)ファインセラミックスセンターナノ構造研究所 ナノスコピー・シュミレーション部
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西村 一実
新日本製鐵
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芳井 熊安
大阪大学大学院工学研究科
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安武 潔
大阪大学 大学院工学研究科
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吉井 熊安
大阪大学工学部
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加藤 丈晴
財団法人ファインセラミックスセンター
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平山 司
(財)ファインセラミックスセンター ナノ構造研究所
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清水 正男
(株)日本アイ・ビー・エム
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王 洲光
(財)ファインセラミックスセンター
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加藤 丈晴
名大・工
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布目 健二
名大・工
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加藤 直子
日本IBM
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布目 健二
名大, 工
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布目 健二
名大 工
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清水 正男
大阪大学大学院工学研究科
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文 承啓
日本アイ・ビー・エム(株)
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阿武 潔
大阪大学大学院工学研究科
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佐々木 勝寛
名大・工
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芳井 熊安
大阪大学工学部精密工学科
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王 洲光
財団法人 ファインセラミックスセンター材料技術研究所
-
平山 司
財団法人 ファインセラミックスセンター材料技術研究所
-
加藤 直子
株式会社 アイテス半導体故障解析部
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河野 好映
野洲セミコンダクター株式会社
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浦田 研哉
(株)イメージセンス
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宮下 公哉
JFCC
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王 洲光
JFCC
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丸山 秀夫
(株)アイテス半導体故障解析
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西村 一実
新日本製鐵(株) 鉄鋼研究所
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森本 康秀
新日本製鐵株式会社 技術開発本部鉄鋼研究所表面処理研究部
著作論文
- 電子線ホログラフィーによる電界効果トランジスタ内二次元電位分布解析
- 22pXB-7 電子線ホログラフィによるシリコン p-n 接合電位分布計測の物理的意味
- TEMによる融体Zn/Fe反応界面のその場加熱観察
- FIB加工によるピンポイントTEM観察 半導体故障解析への応用
- 超音波振動による発生したシリコン転位の電子顕微鏡観察
- 半導体素子特性に対するコンタクトホール内部の残留有機物薄膜の影響
- 電子線ホログラフィーによる相補型 MOS(Complementary MOS) デバイス断面のドーパント分布解析
- 電子線ホログラフィーと集束イオンビームを用いた電界効果トランジスタ(MOSFET)断面の2次元電位分布解析
- シリコンデバイスにおける微少リークパスの FIB/TEM による解析
- 18pTH-6 電子線ホログラフィによるMOSFET断面の電位分布解析
- FIB照射により発生するGa析出物の電子顕微鏡観察
- 生きている半導体デバイスを観察するためのFIB加工技術の開発
- くさび形研磨とウェットエッチングによるシリサイド薄膜試料製作