18pTH-6 電子線ホログラフィによるMOSFET断面の電位分布解析
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2001-09-03
著者
-
佐々木 勝寛
名古屋大学工学部
-
坂 公恭
名古屋大学工学部
-
加藤 直子
株式会社アイテス品質技術部
-
平山 司
財団法人ファインセラミックスセンター
-
佐々木 勝寛
名古屋大学大学院工学研究科・量子工学専攻
-
坂 公恭
名大・大学院
-
加藤 直子
(株)アイテス 技術事業部 品質技術部
-
王 洲光
財団法人ファインセラミックスセンター
-
浦田 研哉
(株)イメージセンス
-
坂 公恭
名古屋大学
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