電子線ホログラフィーによるシリコン内極微量ドーパント分布の2次元解析と半導体産業への活用
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概要
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- 日本セラミックス協会の論文
- 2006-08-01
著者
-
平山 司
ファインセラミックスセンター
-
平山 司
(財)ファインセラミックスセンター材料技術研究所研究第一部
-
平山 司
(財)ファインセラミックスセンターナノ構造研究所 ナノスコピー・シュミレーション部
-
平山 司
(財)ファインセラミックスセンター ナノ構造研究所
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