木村 勝高 | (株)日立製作所中央研究所

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概要

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関連著者

• 木村 勝高

  (株)日立製作所中央研究所

• 佐伯 俊一

  日立デバイスエンジニアリング(株)

• 宮本 直樹

  日立デバイスエンジニアリング(株)

• 久米 均

  日立製作所中央研究所

• 河原 尊之

  (株)日立製作所中央研究所

• 加藤 正高

  (株)日立製作所半導体事業部半導体開発センタ

• 城野 雄介

  (株)日立製作所半導体事業部

• 久米 均

  (株)日立製作所中央研究所

• 田中 利広

  (株)日立製作所中央研究所

• 田中 利広

  日立

• 木村 勝高

  日立製作所中央研究所

• 阪田 健

  (株)日立製作所中央研究所

• 坂田 健

  (株)日立製作所 中央研究所

• 足立 哲生

  (株)日立製作所半導体事業部半導体開発センタ

• 田中 利広

  (株)日立製作所 半導体グループ

• 加藤 正高

  (株)日立製作所中央研究所

• 足立 哲生

  (株)日立製作所中央研究所

• 阪田 健

  日立製作所中央研究所

• 小林 孝

  (株)日立製作所中央研究所

• 青木 正和

  日立製作所半導体事業部

• 小倉 圭介

  (株) 日立製作所 半導体事業部

• 渡部 隆夫

  日立中央研究所

• 中込 儀延

  (株)日立製作所半導体事業部

• 伊藤 清男

  (株)日立製作所中央研究所

• 梶谷 一彦

  日立製作所デバイス開発センタ

• 伊藤 清男

  株式会社日立製作所中央研究所

• 伊藤 清男

  日立製作所

• 中込 儀延

  株式会社 日立製作所 半導体事業部

• 中込 儀延

  日立製作所中央研究所

• 関口 知紀

  株式会社日立製作所中央研究所

• 藤澤 宏樹

  日立製作所デバイス開発センタ

• 渡部 隆夫

  日立製作所中央研究所

• 関口 知紀

  (株)日立製作所中央研究所

• 渡部 隆夫

  日立製作所中央研究所 ソリューションlsi研究センタulsi研究部

• 徳永 尚文

  日立 デバイス開セ

• 青木 正和

  日立製作所中央研究所

• 河原 尊之

  日立製作所・中央研究所

• 笹子 佳孝

  (株)日立製作所 中央研究所

• 笹子 佳孝

  日立製作所中央研究所

• 倉田 英明

  (株)日立製作所 中央研究所

• 有金 剛

  (株)日立製作所中央研究所

• 佐藤 聡彦

  (株)ルネサステクノロジ

• 後藤 康

  (株)日立製作所中央研究所

• 奥山 裕

  (株)日立製作所中央研究所

• 小山 健一

  日本電気(株)ulsiデバイス開発研究所

• 関口 知紀

  (株)日立製作所システム開発研究所

• 永島 靖

  日立製作所デバイス開発センター

• 田中 利広

  (株) 日立製作所 半導体グループ

• 佐藤 聡彦

  (株)日立製作所中央研究所

• 辻川 哲也

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 加藤 正高

  日立製作所中央研究所

• 小倉 圭介

  (株)日立製作所 半導体事業部

• 加藤 昌高

  (株) 日立製作所 中央研究所

• 足立 哲生

  (株) 日立製作所 中央研究所

• 久米 均

  (株) 日立製作所 中央研究所

• 木村 勝高

  (株) 日立製作所 中央研究所

• 梶谷 一彦

  (株)日立製作所デバイス開発センター

• 梶谷 一彦

  (株)日立製作所デバイス開発センタ

• 有留 誠一

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 後藤 康

  (株)日立製作所 中央研究所

• 味香 夏夫

  (株)GENUSION

• 鳥居 和功

  日立製作所中央研究所

• 鳥居 和功

  日立・中研

• 関口 知紀

  日立製作所中央研究所

• 有留 誠一

  株式会社東芝 セミコンダクター社 マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 藤澤 宏樹

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ

• 永島 靖

  (株)日立製作所 デバイス開発センタ

• 奥山 裕

  日立製作所・中央研究所

• 味香 夏夫

  三菱電機株式会社ULSI開発研究所

• 小山 健一

  日本電気株式会社ulsiデバイス開発研究所

• 倉田 英明

  (株)日立製作所

• 城野 雄介

  日立製作所 半導体事業部

• 佐伯 俊一

  日立バイスエンジニアリング(株)

• 宮本 直樹

  日立バイスエンジニアリング(株)

• 有留 誠一

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス研究所

• 小山 健一

  日本電気ulsiデバイス開発研究所メモリ開発部

• 有金 剛

  日立 中研

• 鳥居 和功

  日立製作所 中央研究所

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著作論文

• コンテンツ配信用ギガスケールAG-AND型フラッシュメモリセル
• AND型フラッシュメモリの動向
• 3V単一電源フラッシュメモリのビット毎制御書換え方式の検討
• 3V単一電源フラシュメモリのワードデコーダ回路方式の検討
• 3V単一電源フラッシュメモリの書込みパルス幅べき乗比印加方式の検討
• 不揮発DRAM用高耐性・低電力回路技術
• 高速・低電力強誘電体メモリを実現する新読み出し回路方式
• DRAMセルアレーを用いた10^6シナプス、デジタルニューロチップの検討(マイクロ・プロセッサ,ニューラルネットワーク)
• DRAMセルアレーを用いた10^6シナプス、デジタルニューロチップの検討
• 2.5V電源フラッシュメモリにおける高精度基準電圧発生回路
• ビット線クランプ方式によるフラッシュメモリ高速読出し動作の検討
• フラッシュメモリにおける高効率高電圧並びに高精度基準電圧発生回路
• フラッシュメモリにおけるウェルデコード消去方式の検討
• フラッシュメモリにおける可変ワード線電圧を用いた高信頼化書込み技術
• 不揮発性メモリとそのスケーリング
• サブ100nm時代の半導体プロセス・製造技術の展望 (特集 最先端半導体デバイスの生産を実現するベストソリューション)
• 0.1μm時代の半導体製造・検査技術の展望 (特集 最新の半導体技術とその応用) -- (半導体製造・検査システム)

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