有留 誠一 | (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
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概要
関連著者
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有留 誠一
(株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
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有留 誠一
株式会社東芝 セミコンダクター社 マイクロエレクトロニクス技術研究所
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有留 誠一
(株)東芝マイクロエレクトロニクス研究所
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佐藤 信司
(株)東芝マイクロエレクトロニックス技術研究所
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渡部 浩
(株)東芝セミコンダクタ社
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木村 勝高
(株)日立製作所中央研究所
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小山 健一
日本電気(株)ulsiデバイス開発研究所
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伊藤 寧夫
(株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
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伊藤 寧夫
(株)東芝セミコンダクター社
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作井 康司
(株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
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味香 夏夫
(株)GENUSION
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白田 理一郎
東芝・セミコンダクター社メモリ事業部
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清水 和裕
東芝・セミコンダクター社メモリ事業部
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竹内 祐司
東芝・セミコンダクター社メモリ事業部
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白田 理一郎
株式会社東芝 セミコンダクター社 マイクロエレクトロニクス技術研究所
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清水 和裕
株式会社東芝 セミコンダクター社 マイクロエレクトロニクス技術研究所
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作井 康司
株式会社東芝 セミコンダクター社 マイクロエレクトロニクス技術研究所
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味香 夏夫
三菱電機株式会社ULSI開発研究所
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小山 健一
日本電気株式会社ulsiデバイス開発研究所
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渡部 浩
(株)東芝マイクロエレクトロニックス技術研究所
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竹内 祐司
(株)東芝マイクロエレクトロニックス技術研究所
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清水 和裕
(株)東芝マイクロエレクトロニックス技術研究所
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Hemink G.
フィリップス
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白田 理一郎
(株)東芝マイクロエレクトロニックス技術研究所
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小山 健一
日本電気ulsiデバイス開発研究所メモリ開発部
著作論文
- 5. 大容量データストレージ技術 5-4 大容量フラッシュメモリ (大規模データ処理を支えるエレクトロニクス : マルチメディア世界の到来に向けて)
- Shallow Trench Isolation (STI)を用いた高密度・多値NANDフラッシュメモリ
- 不揮発性メモリとそのスケーリング