大来 英之 | 沖電気工業株式会社研究開発センタ
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
大来 英之
沖電気工業株式会社研究開発センタ
-
大来 英之
沖電気工業
-
江川 孝志
名古屋工業大学極微構造デバイス研究センター
-
江川 孝志
名古屋工業大学
-
伊藤 正紀
沖電気工業株式会社研究開発センタ
-
関 昇平
沖電気工業株式会社研究開発センタ
-
関 昇平
沖電気工業
-
伊藤 正紀
沖電気工業
-
佐野 芳明
沖電気工業株式会社研究開発本部
-
佐野 芳明
沖電気工業
-
星 真一
沖電気工業株式会社研究開発センタ
-
星 真一
沖電気工業オプティカルコンポーネントカンパニー
-
丸井 俊治
沖電気工業株式会社研究開発センタ
-
戸田 典彦
沖電気工業株式会社研究開発センタ
-
見田 充郎
沖電気工業
-
戸田 典彦
沖電気工業
-
丸井 俊治
沖電気工業
-
見田 充郎
沖電気工業株式会社 研究開発本部
-
石川 博康
名古屋工業大学極微構造デバイス研究センター
-
石川 博康
名古屋工業大学極微デバイス機能システム研究センター
-
石川 博康
名古屋工業大学工学研究科機能工学専攻:名古屋工業大学工学研究科都市循環システム工学専攻
-
海部 勝晶
沖電気工業研究開発本部
-
海部 勝晶
沖電気工業株式会社研究開発本部
-
海部 勝晶
沖電気工業株式会社
-
森野 芳昭
沖電気工業株式会社研究開発センタ
-
玉井 功
沖電気工業株式会社研究開発センタ
-
山田 朋幸
沖電気工業(株)研究開発本部
-
玉井 功
沖電気工業
-
江川 孝志
名古屋工業大学極微デバイス機能システム研究センター
-
江川 孝志
Research Center For Nano-device And System Nagoya Institute Of Technology
-
Egawa Takashi
Pharmaceutical Research Center Meiji Seika Kaisha Ltd.
-
神保 孝志
名古屋工業大学極微構造デバイス研究センター
-
神保 孝志
三重大学電気電子工学科
-
鷺森 友彦
沖電気工業株式会社研究開発本部
-
神保 孝志
名古屋工業大学
-
槇田 毅彦
沖電気工業株式会社研究開発本部:超低損失電力素子技術開発研究体
-
神保 孝志
名古屋工業大学極微デバイス機能システム研究センター
-
Jimbo T
Nagoya Inst. Technol. Nagoya Jpn
-
江川 孝志
名古屋工業大学工学部附属極微構造デバイス研究センター
-
槙田 毅彦
沖電気工業(株)研究開発本部 半導体技術研究所
-
槙田 毅彦
沖電気工業
-
槇田 毅彦
沖電気工業株式会社研究開発本部
-
槇田 毅彦
沖電気工業株式会社研究開発センタ
著作論文
- C-2-35 2GHz帯200W級高利得GaN-HEMTの開発(C-2. マイクロ波A(マイクロ波・ミリ波能動デバイス),一般セッション)
- Si基板上GaN-HEMTによる5GHz50W出力電力特性(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- 熱CVD成長SiN膜を用いたゲートリセス構造MIS-AlGaN/GaN-HEMTの電気特性(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- Si基板上GaN-HEMTによる5GHz50W出力電力特性(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- [Invited]リセスゲートAlGaN/GaN-HEMTの特性(AWAD2003 : 先端デバイスの基礎と応用に関するアジアワークショツプ)
- [Invited]リセスゲートAlGaN/GaN-HEMTの特性(AWAD2003(先端デバイスの基礎と応用に関するアジアワークショップ))
- リセスゲートAlGaN/GaN-HEMTの高周波特性(ワイドギャップ半導体とその電子デバイス応用論文小特集)
- Si基板上GaN-HEMTによる5GHz50W出力電力特性(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- 熱CVD成長SiN膜を用いたゲートリセス構造MIS-AlGaN/GaN-HEMT
- C-10-13 熱抵抗を最適化したSi基板上GaN-HEMTのRF特性(C-10.電子デバイス,一般セッション)
- C-10-6 熱伝導率の温度依存を考慮したSi基板上GaN-HEMTの特性評価(C-10.電子デバイス,一般セッション)
- Si基板上に作製したAlGaN/GaN-HEMTの高周波特性(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- Si基板上に作製したAlGaN/GaN-HEMTの高周波特性(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- Si基板上に作製したAlGaN/GaN-HEMTの高周波特性(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- Si基板上に作製したAlGaN/GaN-HEMTの高周波特性
- 高出力AlGaN/GaN-HEMTにおける熱設計の検討(超高速・超高周波デバイス及びIC/一般)
- 高出力AlGaN/GaN-HEMTにおける熱設計の検討(超高速・超高周波デバイス及びIC/一般)
- 熱CVD成長SiN表面保護膜のAlGaN/GaN HEMT電気特性への影響(化合物半導体IC及び超高速・超高周波デバイス)
- 熱CVD成長SiN表面保護膜のAlGaN/GaN HEMT電気特性への影響(化合物半導体IC及び超高速・超高周波デバイス)
- 高相互コンダクタンスを有するSic基板上のリセスゲートAlGaN/GaN-HEMT(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- 高相互コンダクタンスを有するSiC基板上のリセスゲートAlGaN/GaN-HEMT(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- 高相互コンダクタンスを有するSiC基板上のリセスゲートAlGaN/GaN-HEMT(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- 高相互コンダクタンスを有するSiC基板上のリセスゲートAlGaN/GaN-HEMT
- 高利得高効率電力増幅器用GaN-HEMT技術