渡部 宏治 | 日本電気株式会社 シリコンシステム研究所
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
渡部 宏治
日本電気株式会社 シリコンシステム研究所
-
渡部 宏治
日本電気株式会社システムデバイス研究所
-
辰巳 徹
日本電気株式会社
-
五十嵐 信行
NEC(株)システムデバイス研究所
-
辰巳 徹
日本電気株式会社 シリコンシステム研究所
-
五十嵐 信行
日本電気株式会社システムデバイス研究所
-
五十嵐 信行
日本電気株式会社
-
小倉 卓
Necエレクトロニクス株式会社
-
山本 豊二
MIRAI-ASET
-
山本 豊二
NEC(株)システムデバイス研究所
-
山本 豊二
NECシリコンシステム研究所
-
山本 豊二
日本電気株式会社シリコンシステム研究所
-
最上 徹
Nec シリコンシステム研究所
-
東郷 光洋
NECエレクトロニクス株式会社
-
東郷 光洋
日本電気株式会社 シリコンシステム研究所
-
最上 徹
日本電気株式会社 シリコンシステム研究所
-
高橋 健介
日本電気株式会社
-
最上 徹
Necシステムデバイス研究所
-
忍田 真希子
日本電気株式会社システムデバイス研究所
-
渡辺 啓仁
日本電気株式会社
-
西藤 哲史
日本電気株式会社
-
間部 謙三
日本電気株式会社
-
寺島 浩一
日本電気株式会社システムデバイス研究所
-
小倉 卓
(株)genusion
-
寺島 浩一
日本電気
-
小倉 卓
日本電気株式会社システムデバイス研究所
-
小野 春彦
日本電気株式会社 シリコンシステムデバイス・基礎研究本部 シリコンシステム研究所
-
小野 春彦
NECシリコンシステム研
-
成広 充
NECシステムデバイス研究所
-
成廣 充
日本電気株式会社システムデバイス研究所
-
新井 浩一
日本電気株式会社システムデバイス研究所
-
渡辺 啓仁
日本電気ULSIデバイス開発研究所
-
辰巳 徹
日本電気(株)
-
寺井 真之
早稲田大学
-
寺井 真之
日本電気株式会社デバイスプラットフォーム研究所
-
深井 利憲
日本電気株式会社 シリコンシステム研究所
-
忍田 真希子
日本電気(株)システムデバイス研究所
-
五十嵐 信行
日本電気(株)システムデバイス研究所
-
渡辺 啓仁
日本電気(株)システムデバイス研究所
-
深井 利憲
Necエレクトロニクス
-
小倉 卓
日本電気
-
Terai Masayuki
Department Of Applied Physics Waseda University
-
五十嵐 信行
日本電気
-
渡部 宏治
日本電気
-
忍田 真希子
日本電気
著作論文
- ラジカル酸窒化法を用いたSTI端近傍のグート絶縁膜改善による高性能・高信頼サブ1.5nmグート酸窒化膜形成
- SOI基板上のNi-FUSI/HfSiON MOSFETにおけるしきい値電圧制御
- SOI基板上のNi-FUSI/HfSiON MOSFETにおけるしきい値電圧制御(IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
- SOI基板上のNi-FUSI/HfSiON MOSFETにおけるしきい値電圧制御
- ラジカル酸窒化法を用いた低リークかつ高信頼1.5nmゲート酸窒化膜
- ラジカル酸窒化法を用いた低リークかつ高信頼1.5nmゲート酸窒化膜