福田 永 | 室蘭工業大学工学部
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概要
関連著者
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福田 永
室蘭工業大学工学部
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福田 永
室蘭工業大学
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福田 永
室蘭工業大・創成機能工学
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野村 滋
室蘭工業大学
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野村 滋
室蘭工業大学工学部電子電子工学科
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古川 雅一
アリエース・リサーチ有限会社
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古川 雅一
室蘭工業大学
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植杉 克弘
室蘭工業大学工学部
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西野 元一
北海道職業能力開発大学校
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東海林 春樹
室蘭工業大学工学部
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西野 元一
北海道職業能力開発大
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下野 功
北海道立工業技術センター
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菅原 智明
北海道立工業技術センター
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吉野 正樹
北海道職業能力開発大学校
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下野 功
道立工業技術センター
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小島 崇
室蘭工業大学工学部
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本間 工士
北海道電力
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辻野 二朗
北海道電力(株)総合研究所
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笠間 晃一朗
室蘭工業大学
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辻野 二朗
北海道電力(株)
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辻野 二朗
北海道電力
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田中 茂雄
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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本間 工士
北海道電力(株)
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野中 聡
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
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古川 雅一
アリエース・リサーチ(株)
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夛田 芳広
室蘭工業大学工学部
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山田 真也
室蘭工業大学工学部
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村上 大輔
室蘭工業大学工学部電子電子工学科
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木村 健志
(株)伊藤喜三郎建築研究所
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佐藤 孝紀
室蘭工業大学
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田畑 昌祥
室蘭工業大学教育研究等支援機構
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佐藤 卓
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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馬渡 康輝
室蘭工業大学教育研究等支援機構
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今村 哲也
室蘭工業大学工学部
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前田 真一
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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小西 秀和
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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Salam K.
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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木村 健志
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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長堀 哲也
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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松永 慎一
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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本間 俊平
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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余湖 広充
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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中村 滋宏
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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山田 友和
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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カジ サラム
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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上西 龍二
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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三浦 美保
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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山田 邦弘
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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遠藤 敏明
室蘭工業大学
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斎藤 裕昭
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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佐藤 大介
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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渡邊 幹夫
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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竹谷 聖克
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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大巻 信也
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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水上 雅裕
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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小山 登
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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木村 健志
国立中山大学応用数学系(台湾)
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石塚 研次
(株)東芝マイクロエレクトロニクス
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渡辺 幹夫
室蘭工業大学工学部電気電子工学専攻
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Salam K.
Department Of Electrical And Electronic Engineering Faculty Of Engineering Muroron Institute Of Tech
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遠藤 敏明
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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Nomura Shigeru
Department Of Electrical And Electronic Engineering Faculty Of Engineering Muroran Institute Of Tech
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Maeda Shinichi
Department Of Electrical And Electronic Engineering Faculty Of Engineering Muroron Institute Of Tech
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Nomura Shigeru
Department Of Electrical And Electronic Engineering Faculty Of Engineering Muroron Institute Of Tech
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Fukuda Hisashi
Department Of Electrical And Electronic Engineering Faculty Of Engineering Muroran Institute Of Tech
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馬渡 康輝
室蘭工業大学大学院工学研究科
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田畑 昌祥
室蘭工業大学大学院工学研究科
著作論文
- 白金一酸化タングステンゲートMOSFET型COガスセンサの応答特性
- RFスパッタ法で作製した不均一AIドープZnO薄膜の結晶状態と電気特性との関係
- ペンタセン薄膜形成と有機トランジスタへの応用
- ポリ3ヘキシルチオフェン薄膜形成と有機トランジスタへの応用
- ポリ3ヘキシルチオフェン薄膜形成と有機薄膜トランジスタへの応用(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- CPM2000-74 有機金属分解法を用いた酸化イットリウム薄膜形成と電気的特性評価
- CPM2000-73 白金-酸化タングステンゲートMOSFET型ガスセンサの試作
- ヘテロ原子含有置換ポリアセチレンの有機トランジスタへの応用
- ポリ3ヘキシルチオフェン薄膜形成と有機薄膜トランジスタへの応用(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- ポリ3ヘキシルチオフェン薄膜形成と有機薄膜トランジスタへの応用(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
- Application of Ta_2O_5 based composites as a gate dielectric
- マグネトロンスパッタ法により作製したZnO膜の構造と組成
- 有機金属分解によるチタン酸鉛薄膜の構造と電気的特性
- 有機金属分解法による酸化タンタル薄膜の構造と電気的特性
- スパッタ法により作製したインジウム添加硫化亜鉛膜の構造と電気的特性
- シリコン酸化膜中のゲルマニウム微結晶における光学および電気的特性
- 有機金属分解による酸化イットリウム薄膜の構造と電気的特性
- 有機金属分解による酸化チタン薄膜の構造と電気的特性
- CPM2000-89 有機金属分解法を用いたチタン酸鉛薄膜形成と電気的特性評価
- CPM2000-88 有機金属分解法を用いたジルコン酸鉛薄膜形成と電気的特性
- CPM2000-86 シリコン酸化膜中のゲルマニウム微結晶成長とその評価
- CPM2000-75 有機金属分解によって形成した(1-x)Ta_2O_TiO_2薄膜の電気的特性と構造
- マグネトロンスパッタ法により作製したZnS膜の構造と組成
- 高感度MOSFET型ガスセンサの吸着特性
- 高感度集積化MOSFETガスセンサーの吸着特性
- PZT(PbZrTiO_3)/STO(SrTiO_3)薄膜成長と不揮発性メモリへの応用
- ポーラスシリコン膜の酸化と発光デバイスへの応用
- 高密度プラズマ発生装置の開発と次世代薄膜形成への応用に関する研究 (平成20年度共同研究プロジェクト成果)
- 中性原子発生装置の開発とナノスケール半導体薄膜形成への応用に関する研究
- 表面波励起プラズマによる中性水素原子生成とレジストアッシングへの応用 (2003年度実施の地域との共同研究の報告)
- シリコン酸化膜中のゲルマニウムナノ結晶の光学的および電気的特性(電子部品・材料, 及び一般)
- 有機金属分解法により形成した酸化タンタル薄膜の構造と電気的特性(電子部品・材料, 及び一般)
- 酸窒化極薄シリコン酸化膜の成長機構
- 有機金属分解法により形成した酸化チタン薄膜の構造と電気的特性(電子部品・材料, 及び一般)
- 急速熱窒化技術による極薄シリコン窒化膜成長とその電気的特性評価
- 次世代表面弾性波デバイス製造に向けた微細加工技術に関する研究 (平成21年度 プレ共同研究成果)
- 急速熱酸化膜の成長機構についての検討
- 表面波プラズマ装置の開発と半導体プロセスへの応用
- 表面波プラズマ発生装置の開発と半導体プロセスへの応用に関する研究(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 表面波プラズマ発生装置の開発と半導体プロセスへの応用に関する研究(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 表面波プラズマ発生装置の開発と半導体プロセスへの応用に関する研究(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 表面波プラズマ発生装置の開発と半導体プロセスへの応用に関する研究(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 表面波プラズマ発生装置の開発と半導体プロセスへの応用に関する研究
- 表面波プラズマ発生装置の開発と半導体プロセスへの応用に関する研究
- 中性原子発生装置の開発とナノスケール半導体薄膜形成への応用に関する研究
- Synthesis of High Dielectric Constant Titanium Oxide Thin Films by Metalorganic Decomposition
- ギガビットULSIに向けた極薄シリコン酸窒化膜
- ギガビットULSIに向けた極薄シリコン酸窒化膜