真空中での熱処理によるPt/NiO/Pt抵抗変化素子の電気的特性変化(シリコン関連材料の作製と評価)
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概要
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酸化ニッケル(NiO)を用いて作製した,Pt/NiO/Pt抵抗変化素子に熱処理を行い,その素子特性変化を評価した.熱処理は真空中およびAr雰囲気下.220℃あるいは300℃の熱処理温度にて行った.真空220℃およびAr220℃, Ar300℃それぞれの条件における熱処理では,いずれもNiOの組成はほとんど変化せず,素子の初期抵抗および高抵抗状態における抵抗が大きく増加した.この初期抵抗の増加は,欠陥準位からのキャリア励起に対する,活性化エネルギーの増加に起因することが分かった.一方,真空300℃の熱処理では,NiOからの酸素脱離が生じ,素子の初期抵抗が減少した.さらに,高抵抗状態における抵抗が初期抵抗よりも大きな素子が存在し,酸素脱離がフォーミングに似た効果を引き起こすことが示唆された.
- 2010-12-10
著者
-
木本 恒暢
京都大学工学研究科
-
西 佑介
京都大学工学研究科電子工学専攻
-
岩田 達哉
京都大学工学研究科電子工学専攻
-
木本 恒暢
京都大学工学研究科電子工学専攻:京都大学光・電子理工学教育研究センター
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