a-Si:H/a-Si_1-xC_x:H傾斜構造を用いた光電変換膜による光電流増倍

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概要

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• 静岡大学の論文

著者

• 奥村 佳弘

  ミノルタ株式会社研究開発本部

• 畑中 義式

  静岡大学電子工学研究所

• 畑中 義式

  静岡大

• 安藤 隆男

  静岡大学

• 安藤 隆男

  静岡大学電子工学研究所

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