プラズマ励起化学気相堆積法により作製した水酸基終端型アモルファスTiO_X膜の親水特性

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概要

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• 2003-02-20

著者

• 畑中 義式

  静岡大学電子工学研究所

• 中村 正俊

  (株)村上開明堂開発部

• SIRGHI Lucel

  静岡大学電子工学研究所

• 青木 徹

  静岡大学電子工学研究所

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