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中村 正俊 | (株)村上開明堂開発部
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概要
同名の論文著者
(株)村上開明堂開発部の論文著者
関連著者
畑中 義式
静岡大学電子工学研究所
中村 正俊
(株)村上開明堂開発部
SIRGHI Lucel
静岡大学電子工学研究所
青木 徹
静岡大学電子工学研究所
畑中 義式
静岡大
著作論文
プラズマ励起化学気相堆積法により作製した水酸基終端型アモルファスTiO_X膜の親水特性
プラズマ励起化学気相堆積法により作製した水酸基終端型アモルファスTiO_X膜の親水特性
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