Facile 1,4-Silyl Rearrangement with Concomitant Loss of a Benzenesulfonyl Group : One-Pot Synthesis of Allyloxysilanes
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概要
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In contrast to the thermal stability of the oxido anions 7,facile eliminative rearrangement has been shown to occur in the case of the oxido anions 2 which possess an aryl substituent on the carbon atom bearing the trimethylsilyl group. Thus, the one-pot synthesis of the allyloxysilanes 5,starting from the (E)-β-(trimethylsilyl) vinyl sulfone 1,was achieved via the facile 1,4-silyl rearrangement of the oxido anions 2 with concomitant loss of the benzenesulfonyl group.
- 公益社団法人日本薬学会の論文
- 1984-09-25
著者
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藤田 榮一
Osaka University of Pharmaceutical Sciences
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落合 正仁
Institute for Chemical Research, Kyoto University
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藤田 栄一
京都大学化学研究所
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藤田 栄一
Osaka University Of Pharmaceutical Sciences
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藤田 榮一
Institute for Chemical Research, Kyoto University
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鷲見 賢三
Institute for Chemical Research, Kyoto University
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落合 正仁
Institute For Chemical Research Kyoto University
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落合 正仁
徳島大学大学院ヘルスバイオサイエンス研究部精密薬品製造学分野
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落合 正仁
京都大学化学研究所
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鷲見 賢三
Institute For Chemical Research Kyoto University
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