28a-YR-11 第一原理計算によるSi表面、Si/SiO_2界面における酸化領域成長の研究

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概要

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• 1998-09-05

著者

• 白石 賢二

  NTT基礎研

• 白石 賢二

  筑波大学物理学系

• 白石 賢二

  筑波大物理

• 影島 博之

  NTT基礎研

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